Piezas de siliciuro de tungsteno

El siliciuro de tungsteno WSi2 se utiliza como material de descarga eléctrica en microelectrónica, derivaciones en cables de polisilicio, recubrimiento antioxidante y recubrimiento de cables de resistencia. El siliciuro de tungsteno se utiliza como material de contacto en microelectrónica, con una resistividad de 60-80μΩcm. Se forma a 1000°C. Suele utilizarse como derivación de líneas de polisilicio para aumentar su conductividad y aumentar la velocidad de la señal. La capa de siliciuro de tungsteno se puede preparar mediante deposición química de vapor, tal como deposición de vapor. Utilice monosilano o diclorosilano y hexafluoruro de tungsteno como materia prima gaseosa. La película depositada no es estequiométrica y requiere recocido para transformarse en una forma estequiométrica más conductora.

El siliciuro de tungsteno puede reemplazar la película de tungsteno anterior. El siliciuro de tungsteno también se utiliza como capa barrera entre el silicio y otros metales.

El siliciuro de tungsteno también es muy valioso en sistemas microelectromecánicos, entre los cuales el siliciuro de tungsteno se utiliza principalmente como una película delgada para fabricar microcircuitos. Para ello se puede grabar con plasma la película de siliciuro de wolframio, por ejemplo con siliciuro.

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