Venta al por mayor Fabricante y proveedor personalizados de revestimiento de Pvd de película fina de alta pureza con objetivo de pulverización NiFe

Níquel Hierro

Imagen destacada por encargo de la capa de Pvd de la película fina de la pureza elevada del objetivo de la farfulla de NiFe

Breve descripción:

Categoría	Objetivo de pulverización de aleación
Fórmula química	nife
Composición	Níquel Hierro
Pureza	99,9%, 99,95%, 99,99%
Forma	Placas, objetivos de columna, cátodos de arco, hechos a medida
Proceso de producción	Fusión al vacío, PM
Tamaño disponible	Largo≤2000mm, ancho≤300mm

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Descripción del objetivo de pulverización de hierro y níquel

El objetivo de pulverización catódica de hierro y níquel se fabrica mediante fusión al vacío, fundición y PM. Tiene una permeabilidad magnética muy alta con una intensidad de campo baja.
Un objetivo de níquel-hierro (níquel>30% en peso) demuestra la estructura cúbica centrada en las caras a temperatura ambiente. Convencionalmente, los objetivos de níquel-hierro tienen más del 36% de composición de níquel y podrían dividirse en cuatro categorías: 35%～40% Ni-Fe, 45%～50% Ni-Fe, 50%～65% Ni-Fe y 70%. ~81% Ni-Fe. Cada uno de ellos podría convertirse en materiales con bucles de histéresis magnética circulares, rectangulares o planos.
Los objetivos de pulverización catódica de níquel hierro (Ni-Fe) se utilizan en una amplia gama de aplicaciones, por ejemplo, medios de almacenamiento magnéticos y dispositivos de protección EMI.

Embalaje objetivo de pulverización de hierro y níquel

Nuestro objetivo de pulverización catódica de níquel hierro está claramente etiquetado y etiquetado externamente para garantizar una identificación y un control de calidad eficientes. Se tiene mucho cuidado para evitar cualquier daño que pueda causarse durante el almacenamiento o transporte.

Obtener contacto

Los objetivos de pulverización catódica de níquel hierro de RSM son uniformes y de pureza ultra alta. Están disponibles en varias formas, purezas, tamaños y precios. Podríamos suministrar una pureza del 99,99% y nuestras composiciones típicas: Ni-Fe10at%, N-iFe16at%, Ni-Fe19at%, Ni-Fe20at%, Ni-Fe36at%, Ni-Fe50at%, Ni-Fe70at%.
Nos especializamos en producir materiales de recubrimiento de película delgada de alta pureza con excelente rendimiento, así como la densidad más alta posible y el tamaño de grano promedio más pequeño posible para su uso en recubrimiento de moldes, decoración, piezas de automóviles, vidrio de baja emisividad, circuitos integrados semiconductores, películas delgadas. Resistencia, pantalla gráfica, aeroespacial, grabación magnética, pantalla táctil, batería solar de película delgada y otras aplicaciones de deposición física de vapor (PVD). Envíenos una consulta para conocer los precios actuales de los objetivos de pulverización catódica y otros materiales de deposición que no figuran en la lista.