¿Cuáles son los requisitos de desempeño del objetivo?

El objetivo tiene un amplio mercado, área de aplicación y gran desarrollo en el futuro. Para ayudarlo a comprender mejor las funciones del objetivo, a continuación, el ingeniero de RSM presentará brevemente los principales requisitos funcionales del objetivo.

Pureza: la pureza es uno de los principales indicadores funcionales del objetivo, porque la pureza del objetivo tiene un gran impacto en la función de la película. Sin embargo, en la aplicación práctica, los requisitos de pureza del objetivo también son diferentes. Por ejemplo, con el rápido desarrollo de la industria microelectrónica, el tamaño de la oblea de silicio se amplía de 6 “a 8” a 12 “, y el ancho del cableado se reduce de 0,5 um a 0,25 um, 0,18 um o incluso 0,13 um. Anteriormente, el 99,995 % de la pureza objetivo puede cumplir con los requisitos del proceso de 0,35 um, mientras que la preparación de líneas de 0,18 um requiere el 99,999 % o incluso el 99,9999 % de la pureza objetivo.

Contenido de impurezas: las impurezas en los sólidos objetivo y el oxígeno y el vapor de agua en los poros son las principales fuentes de contaminación de las películas depositadas. Los objetivos para diferentes propósitos tienen diferentes requisitos para diferentes contenidos de impurezas. Por ejemplo, los objetivos de aluminio puro y aleaciones de aluminio utilizados en la industria de semiconductores tienen requisitos especiales en cuanto a contenido de metales alcalinos y elementos radiactivos.

Densidad: para reducir los poros en el sólido objetivo y mejorar la función de la película de pulverización catódica, generalmente se requiere que el objetivo tenga una alta densidad. La densidad del objetivo no sólo afecta la velocidad de pulverización, sino que también afecta las funciones eléctricas y ópticas de la película. Cuanto mayor sea la densidad objetivo, mejor será la función de la película. Además, se mejoran la densidad y la resistencia del objetivo para que el objetivo pueda aceptar mejor la tensión térmica en el proceso de pulverización catódica. La densidad es también uno de los indicadores funcionales clave del objetivo.