Con la mejora de los requisitos integrales de rendimiento y entorno de aplicación de la industria electrónica, el objetivo de pulverización catódica de molibdeno también muestra su rendimiento único. El objetivo de pulverización catódica de molibdeno puede formar películas sobre todo tipo de materiales base. Esta película de pulverización catódica se usa ampliamente en componentes y productos electrónicos. ¿Cuál es la aplicación del objetivo de pulverización catódica de molibdeno? La siguiente es una recopilación de RSM para compartir.
Clasificación de objetivos de pulverización catódica de molibdeno.
1. Objetivo plano
2, objetivo giratorio
Proceso de producción del objetivo de pulverización catódica de molibdeno:
Seleccionar el prensado isostático en frío – sinterización con horno de frecuencia intermedia – laminación por laminador – mecanizado – ensayo – productos.
Aplicación del material objetivo de pulverización catódica de molibdeno:
El material objetivo de molibdeno se usa ampliamente para industrias como vidrio conductor, STN/TN/TFT-LCD, vidrio óptico, recubrimiento iónico, etc., adecuado para todos los sistemas de recubrimiento plano y rotativo.
Estos se basan en el rendimiento del molibdeno de alto punto de fusión, alta conductividad eléctrica, baja impedancia específica, mejor resistencia a la corrosión y excelente desempeño ambiental. En el pasado, el principal material de cableado de las pantallas planas era el cromo, pero con la gran escala y la alta precisión de las pantallas planas, se necesitan cada vez más materiales con baja impedancia específica.
Además, también hay que tener en cuenta la protección del medio ambiente. El molibdeno es uno de los materiales preferidos para la pulverización catódica de pantallas planas debido a sus ventajas de solo la mitad de la impedancia y la tensión de la película en comparación con el cromo y su ausencia de contaminación ambiental.
Hora de publicación: 28 de junio de 2022