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Noticias
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Tecnología de preparación y aplicación de objetivo de tungsteno de alta pureza.
Debido a la alta estabilidad de temperatura, la alta resistencia a la migración de electrones y el alto coeficiente de emisión de electrones del tungsteno refractario y las aleaciones de tungsteno, los objetivos de tungsteno y aleaciones de tungsteno de alta pureza se utilizan principalmente para fabricar electrodos de compuerta, cableado de conexión, barrera de difusión...Leer más -
Objetivo de pulverización catódica de aleación de alta entropía
La aleación de alta entropía (HEA) es un nuevo tipo de aleación metálica desarrollada en los últimos años. Su composición está compuesta por cinco o más elementos metálicos. HEA es un subconjunto de aleaciones metálicas multiprimarias (MPEA), que son aleaciones metálicas que contienen dos o más elementos principales. Al igual que MPEA, HEA es famosa por su super...Leer más -
Objetivo de pulverización catódica: objetivo de níquel-cromo
Target es el material básico clave para la preparación de películas delgadas. En la actualidad, los métodos de preparación y procesamiento de objetivos comúnmente utilizados incluyen principalmente tecnología de pulvimetalurgia y tecnología tradicional de fundición de aleaciones, mientras que adoptamos la fundición al vacío más técnica y relativamente nueva...Leer más -
Objetivo de pulverización Ni-Cr-Al-Y
Como nuevo tipo de material de aleación, la aleación de níquel-cromo-aluminio-itrio se ha utilizado ampliamente como material de recubrimiento en la superficie de piezas de extremo caliente como la aviación y el espacio aeroespacial, palas de turbinas de gas de automóviles y barcos, carcasas de turbinas de alta presión, etc. debido a su buena resistencia al calor, c...Leer más -
Introducción y aplicación del objetivo de carbono (grafito pirolítico)
Los objetivos de grafito se dividen en grafito isostático y grafito pirolítico. El editor de RSM presentará en detalle el grafito pirolítico. El grafito pirolítico es un nuevo tipo de material de carbono. Es un carbón pirolítico de alta orientación cristalina que se deposita mediante vapor químico sobre...Leer más -
Objetivos de pulverización catódica de carburo de tungsteno
El carburo de tungsteno (fórmula química: WC) es un compuesto químico (precisamente, un carburo) que contiene partes iguales de átomos de tungsteno y carbono. En su forma más básica, el carburo de tungsteno es un polvo gris fino, pero se puede prensar y darle formas para su uso en maquinaria industrial, herramientas de corte...Leer más -
Introducción y aplicación del objetivo de pulverización catódica de hierro
Recientemente, el cliente quería pintar el producto de color rojo vino. Preguntó a un técnico de RSM sobre el objetivo de pulverización de hierro puro. Ahora compartamos con usted algunos conocimientos sobre el objetivo de pulverización catódica de hierro. El objetivo de pulverización catódica de hierro es un objetivo metálico sólido compuesto de hierro metálico de alta pureza. Hierro...Leer más -
Aplicación del objetivo de pulverización AZO
Los objetivos de pulverización AZO también se denominan objetivos de pulverización de óxido de zinc dopados con aluminio. El óxido de zinc dopado con aluminio es un óxido conductor transparente. Este óxido es insoluble en agua pero es térmicamente estable. Los objetivos de pulverización AZO se utilizan normalmente para la deposición de películas delgadas. Entonces, ¿qué tipo de...Leer más -
Método de fabricación de aleación de alta entropía.
Recientemente, muchos clientes han preguntado sobre las aleaciones de alta entropía. ¿Cuál es el método de fabricación de una aleación de alta entropía? Ahora compartámoslo con usted por el editor de RSM. Los métodos de fabricación de aleaciones de alta entropía se pueden dividir en tres formas principales: mezcla líquida, mezcla sólida...Leer más -
Aplicación del objetivo de pulverización catódica de chips semiconductores
Rich Special Material Co., Ltd. puede producir objetivos de pulverización catódica de aluminio de alta pureza, objetivos de pulverización catódica de cobre, objetivos de pulverización catódica de tantalio, objetivos de pulverización catódica de titanio, etc. para la industria de semiconductores. Los chips semiconductores tienen altos requisitos técnicos y altos precios para la pulverización catódica...Leer más -
Aleación de aluminio y escandio
Para respaldar la industria de componentes de filtros de radiofrecuencia (RF) y sensores MEMS piezoeléctricos (pMEMS) basados en películas, la aleación de aluminio y escandio fabricada por Rich Special Material Co., Ltd. se utiliza especialmente para la deposición reactiva de películas de nitruro de aluminio dopadas con escandio. . El...Leer más -
Aplicación de objetivos de pulverización catódica de ITO
Como todos sabemos, la tendencia de desarrollo tecnológico de los materiales objetivo de pulverización catódica está estrechamente relacionada con la tendencia de desarrollo de la tecnología de película delgada en la industria de aplicaciones. A medida que mejora la tecnología de los productos o componentes cinematográficos en la industria de aplicaciones, la tecnología objetivo debe...Leer más