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Funciones de los objetivos de pulverización catódica en el revestimiento al vacío
El objetivo tiene muchos efectos y el espacio de desarrollo del mercado es grande. Es muy útil en muchos campos. Casi todos los equipos de pulverización catódica nuevos utilizan potentes imanes que hacen girar electrones en espiral para acelerar la ionización del argón alrededor del objetivo, lo que aumenta la probabilidad de colisión...Leer más -
Categoría de objetivos de pulverización catódica dividida por tecnología de pulverización catódica con magnetrón
Se puede dividir en pulverización catódica con magnetrón de CC y pulverización catódica con magnetrón de RF. El método de pulverización catódica de CC requiere que el objetivo pueda transferir la carga positiva obtenida del proceso de bombardeo de iones al cátodo en estrecho contacto con él, y luego este método solo puede pulverizar el conductor d...Leer más -
Las precauciones para los objetivos de aleación
1. Preparación para la pulverización catódica. Es muy importante mantener limpia la cámara de vacío, especialmente el sistema de pulverización catódica. Cualquier residuo formado por aceite lubricante, polvo y recubrimiento previo acumulará vapor de agua y otros contaminantes, lo que afectará directamente el grado de vacío y aumentará el...Leer más -
Las razones del ennegrecimiento de los objetivos recubiertos al vacío
El color de las placas superior e inferior de recubrimiento al vacío no es el correcto y el color de los dos extremos de una placa es diferente. Además, ¿cuál es el color del ennegrecimiento? El ingeniero de Rich Special Materials Co., Ltd, Sr. Mu Jiangang, explica los motivos. El ennegrecimiento es causado por el aire residual...Leer más -
Clasificaciones y aplicaciones de objetivos de pulverización catódica con magnetrón
1. Método de pulverización catódica con magnetrón: la pulverización catódica con magnetrón se puede dividir en pulverización catódica de CC, pulverización catódica de frecuencia media y pulverización catódica de RF A. La fuente de alimentación de pulverización catódica de CC es barata y la densidad de la película depositada es pobre. Generalmente, las baterías domésticas fototérmicas y de película delgada se utilizan con...Leer más -
Efectos de los objetivos de metal molibdeno en la pantalla LCD de teléfonos móviles
Hoy en día, los teléfonos móviles se han convertido en lo más indispensable para el público y las pantallas de los teléfonos móviles son cada vez más de alta gama. El diseño integral de la pantalla y el diseño de pequeñas explosiones son un paso importante en la fabricación de pantallas LCD para teléfonos móviles. ¿Sabes qué es? Recubrimiento: usa magnetrón...Leer más -
Diferencias entre el recubrimiento por evaporación y el recubrimiento por pulverización catódica
Como todos sabemos, los métodos comúnmente utilizados en el recubrimiento al vacío son la transpiración al vacío y la pulverización iónica. ¿Cuál es la diferencia entre el recubrimiento por transpiración y el recubrimiento por pulverización catódica? Muchas personas tienen este tipo de preguntas. Compartamos con usted la diferencia entre recubrimiento por transpiración y pulverización catódica...Leer más -
Aplicación del objetivo de pulverización catódica de cobre de alta pureza.
Los objetivos de pulverización catódica se utilizan principalmente en las industrias electrónica y de la información, como circuitos integrados, almacenamiento de información, LCD, memoria láser, controladores electrónicos, etc. También se utilizan en el campo del revestimiento de vidrio, materiales resistentes al desgaste, resistencia a la corrosión a altas temperaturas, alto grado...Leer más -
Perspectivas de desarrollo de objetivo de cobre de alta pureza
En la actualidad, casi todos los objetivos de cobre metálico de alta pureza que requiere la industria de circuitos integrados están monopolizados por varias grandes empresas multinacionales extranjeras. Todos los objetivos de cobre ultrapuro que necesita la industria nacional de circuitos integrados deben importarse, lo que no solo es caro, sino...Leer más -
Tecnología y aplicación del objetivo de tungsteno de alta pureza
Los metales refractarios de tungsteno y las aleaciones de tungsteno tienen las ventajas de una estabilidad a altas temperaturas, una alta resistencia a la migración de electrones y un alto coeficiente de emisión de electrones. Los objetivos de tungsteno y aleación de tungsteno de alta pureza se utilizan principalmente para fabricar electrodos de compuerta, cableado de conexión, difusión...Leer más -
¿Cuáles son las características y principios técnicos del material objetivo del recubrimiento?
La fina película sobre el objetivo recubierto tiene una forma de material especial. En la dirección específica del espesor, la escala es muy pequeña, que es una cantidad microscópica mensurable. Además, debido a la apariencia y la interfaz del espesor de la película, la continuidad del material termina, lo que hace que...Leer más -
¿Qué tipos de dianas cerámicas existen?
Con el desarrollo de la industria electrónica, la transición de la información de alta tecnología a las películas delgadas es gradual y el período de recubrimiento se lleva a cabo rápidamente. El objetivo cerámico, como base para el desarrollo de la industria cinematográfica no metálica, ha logrado un desarrollo sin precedentes y el mercado...Leer más