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  • Diferencias entre recubrimiento por evaporación y recubrimiento por pulverización catódica

    Diferencias entre recubrimiento por evaporación y recubrimiento por pulverización catódica

    Como todos sabemos, la evaporación al vacío y la pulverización iónica se utilizan comúnmente en el recubrimiento al vacío. ¿Cuál es la diferencia entre el recubrimiento por evaporación y el recubrimiento por pulverización catódica? A continuación, los expertos técnicos de RSM compartirán con nosotros. El recubrimiento por evaporación al vacío consiste en calentar el material que se va a evaporar...
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  • Requisitos característicos del objetivo de pulverización catódica de molibdeno.

    Requisitos característicos del objetivo de pulverización catódica de molibdeno.

    Recientemente, muchos amigos preguntaron sobre las características de los objetivos de pulverización catódica de molibdeno. En la industria electrónica, para mejorar la eficiencia de la pulverización catódica y garantizar la calidad de las películas depositadas, ¿cuáles son los requisitos para las características de los objetivos de pulverización catódica de molibdeno? Ahora...
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  • Campo de aplicación del material objetivo de pulverización catódica de molibdeno.

    Campo de aplicación del material objetivo de pulverización catódica de molibdeno.

    El molibdeno es un elemento metálico, utilizado principalmente en la industria del hierro y el acero, la mayor parte del cual se usa directamente en la fabricación de acero o hierro fundido después de prensar el óxido de molibdeno industrial, y una pequeña parte se funde en ferromolibdeno y luego se usa en acero. haciendo. Puede mejorar la alo...
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  • Conocimiento de mantenimiento del objetivo de pulverización catódica.

    Conocimiento de mantenimiento del objetivo de pulverización catódica.

    Muchos amigos tienen más o menos preguntas sobre el mantenimiento del objetivo, recientemente también hay muchos clientes que consultan sobre problemas relacionados con el mantenimiento del objetivo, permítanos compartir con el editor de RSM sobre el conocimiento sobre el mantenimiento del objetivo. ¿Cómo debería chisporrotear...?
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  • Principio del revestimiento al vacío.

    Principio del revestimiento al vacío.

    El recubrimiento al vacío se refiere a calentar y evaporar la fuente de evaporación al vacío o pulverizar con bombardeo iónico acelerado y depositarlo en la superficie del sustrato para formar una película de una o varias capas. ¿Cuál es el principio del revestimiento al vacío? A continuación, el editor de RSM hará...
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  • ¿Qué es un objetivo recubierto?

    ¿Qué es un objetivo recubierto?

    El recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón al vacío se ha convertido ahora en una de las tecnologías más importantes en la producción de recubrimientos industriales. Sin embargo, todavía hay muchos amigos que tienen preguntas sobre el contenido relevante del objetivo de recubrimiento. Ahora invitemos a los expertos del objetivo de pulverización catódica de RSM a compartir...
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  • Método de procesamiento de material objetivo de aluminio de alta pureza.

    Método de procesamiento de material objetivo de aluminio de alta pureza.

    Recientemente, ha habido muchas consultas de clientes sobre los métodos de procesamiento de objetivos de aluminio de alta pureza. Los expertos en objetivos de RSM señalan que los objetivos de aluminio de alta pureza se pueden dividir en dos categorías: aleación de aluminio deformada y aleación de aluminio fundido según el procesamiento. .
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  • Aplicación de objetivos de titanio de alta pureza.

    Aplicación de objetivos de titanio de alta pureza.

    Como todos sabemos, la pureza es uno de los principales indicadores de desempeño del objetivo. En el uso real, los requisitos de pureza del objetivo también son diferentes. En comparación con el titanio puro industrial general, el titanio de alta pureza es caro y tiene una gama limitada de aplicaciones. Se utiliza principalmente...
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  • Notas sobre el recubrimiento al vacío por pulverización catódica con magnetrón PVD

    Notas sobre el recubrimiento al vacío por pulverización catódica con magnetrón PVD

    El nombre completo de PVD es deposición física de vapor, que es la abreviatura del inglés (physical vapor deposition). En la actualidad, el PVD incluye principalmente recubrimiento por evaporación, recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón, recubrimiento iónico de arco múltiple, deposición química de vapor y otras formas. En términos generales, PVD bel...
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  • Principales campos de aplicación del objetivo de cobre de alta pureza.

    Principales campos de aplicación del objetivo de cobre de alta pureza.

    ¿En qué campos se utilizan principalmente objetivos de cobre de alta pureza? Sobre este tema, permitamos al editor de RSM presentar el campo de aplicación del objetivo de cobre de alta pureza a través de los siguientes puntos. Los objetivos de cobre de alta pureza se utilizan principalmente en la industria electrónica y de la información, como la integra...
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  • Objetivo de tungsteno

    Objetivo de tungsteno

    El objetivo de tungsteno es un objetivo de tungsteno puro, que está hecho de material de tungsteno con una pureza superior al 99,95%. Tiene brillo metálico blanco plateado. Está hecho de polvo de tungsteno puro como materia prima, también conocido como objetivo de pulverización catódica de tungsteno. Tiene las ventajas de un alto punto de fusión, buena ela...
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  • Explicación detallada sobre los principales conocimientos técnicos del objetivo de cobre.

    Explicación detallada sobre los principales conocimientos técnicos del objetivo de cobre.

    Con la creciente demanda de objetivos en el mercado, existen cada vez más tipos de objetivos, como objetivos de aleación, objetivos de pulverización catódica, objetivos cerámicos, etc. ¿Cuáles son los conocimientos técnicos sobre los objetivos de cobre? Ahora compartamos con nosotros el conocimiento técnico de los objetivos de cobre, 1. De...
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