Los objetivos de molibdeno pulverizados se han utilizado ampliamente en la industria electrónica, las células solares, el revestimiento de vidrio y otros campos debido a sus ventajas inherentes. Con el rápido desarrollo de la tecnología moderna en miniaturización, integración, digitalización e inteligencia, el uso de objetivos de molibdeno seguirá aumentando y los requisitos de calidad para ellos también serán cada vez más altos. Por tanto, necesitamos encontrar formas de mejorar la tasa de utilización de los objetivos de molibdeno. Ahora, el editor de RSM presentará varios métodos para mejorar la tasa de utilización de objetivos de molibdeno de pulverización catódica para todos.
1. Agregue una bobina electromagnética en el reverso.
Para mejorar la tasa de utilización del objetivo de molibdeno pulverizado, se puede agregar una bobina electromagnética en el reverso del objetivo de molibdeno de pulverización catódica del magnetrón plano, y el campo magnético en la superficie del objetivo de molibdeno se puede aumentar aumentando la corriente de La bobina electromagnética, para mejorar la tasa de utilización del objetivo de molibdeno.
2. Seleccione el material objetivo giratorio tubular
En comparación con los objetivos planos, la elección de una estructura de objetivo giratoria tubular resalta sus importantes ventajas. Generalmente, la tasa de utilización de objetivos planos es sólo del 30% al 50%, mientras que la tasa de utilización de objetivos giratorios tubulares puede alcanzar más del 80%. Además, cuando se utiliza el objetivo de pulverización catódica de magnetrón de tubo hueco giratorio, dado que el objetivo puede girar alrededor del conjunto de imán de barra fija todo el tiempo, no habrá redeposición en su superficie, por lo que la vida útil del objetivo giratorio es generalmente más de 5 veces más larga. que el del objetivo del avión.
3. Reemplazar con nuevo equipo de pulverización catódica.
La clave para mejorar la tasa de utilización de los materiales objetivo es completar el reemplazo del equipo de pulverización catódica. Durante el proceso de pulverización catódica del material objetivo de pulverización catódica de molibdeno, aproximadamente una sexta parte de los átomos de pulverización catódica se depositarán en la pared o soporte de la cámara de vacío después de ser golpeados por iones de hidrógeno, lo que aumentará el costo de limpieza del equipo de vacío y el tiempo de inactividad. Por lo tanto, reemplazar nuevos equipos de pulverización catódica también puede ayudar a mejorar la tasa de utilización de los objetivos de molibdeno de pulverización catódica.
Hora de publicación: 24 de mayo de 2023