La próxima generación de grandes telescopios requerirá espejos robustos, altamente reflectantes, uniformes y con un diámetro de base superior a 8 metros.
Tradicionalmente, los recubrimientos evaporativos requieren una amplia cobertura de la fuente y altas tasas de deposición para evaporar eficazmente los recubrimientos reflectantes. Además, se debe tener especial cuidado para evitar la evaporación de los chaflanes, lo que puede provocar el crecimiento de estructuras columnares y una reflectividad reducida.
El recubrimiento por pulverización es una tecnología única que proporciona soluciones adecuadas para recubrimientos reflectantes de una o varias capas en sustratos grandes. La pulverización catódica a larga distancia es un método de procesamiento de semiconductores ampliamente utilizado y proporciona una mayor densidad y adhesión del recubrimiento en comparación con los recubrimientos pulverizados.
Esta tecnología crea una cobertura uniforme a lo largo de toda la curvatura del espejo y requiere un enmascaramiento mínimo. Sin embargo, la pulverización catódica de aluminio de largo alcance aún no ha encontrado una aplicación eficaz en grandes telescopios. La atomización de corto alcance es otra tecnología que requiere capacidades de equipos avanzados y máscaras complejas para compensar la curvatura del espejo.
Este artículo demuestra una serie de experimentos para evaluar el efecto de los parámetros de pulverización de largo alcance sobre la reflectividad del espejo en comparación con un espejo de aluminio con superficie frontal convencional.
Los resultados experimentales muestran que el control del vapor de agua es un factor importante en la creación de revestimientos de espejos de aluminio duraderos y altamente reflectantes, y también muestran que la pulverización a larga distancia en condiciones de baja presión de agua puede ser muy eficaz.
RSM (Rich Special Materials Co., LTD.) suministra tipos de objetivos de pulverización catódica y varillas de aleación
Hora de publicación: 28 de septiembre de 2023