Un objetivo de pulverización catódica es un material electrónico que forma una película delgada al unir una sustancia como una aleación o un óxido metálico a un sustrato electrónico a nivel atómico. Entre ellos, el objetivo de pulverización catódica para la película ennegrecida se utiliza para formar una película en el panel EL orgánico o de cristal líquido para ennegrecer el cableado y reducir la reflectancia de la luz visible (baja reflectancia) del cableado TFT. El objetivo de pulverización tiene las siguientes ventajas y efectos. En comparación con los productos anteriores, ayuda a mejorar el alto grado de finura y libertad de diseño de varias pantallas y a reducir el ruido causado por la luz reflejada del cableado de productos relacionados con semiconductores.
Ventajas y efectos del objetivo de aluminio:
(1) Una vez formado el objetivo de aluminio en el cableado, se puede reducir la luz visible.
En comparación con productos anteriores, puede lograr una baja reflexión.
(2) La pulverización catódica de CC se puede realizar sin gas reactivo
En comparación con productos anteriores, es útil lograr la homogeneidad de la película en sustratos grandes.
(3) Una vez formada la película, el proceso de grabado se puede realizar junto con el cableado.
ajuste el material de acuerdo con el proceso de grabado existente del cliente y puede grabar junto con el cableado sin cambiar el proceso existente. Además, la empresa también brindará soporte de acuerdo con las condiciones de pulverización de los clientes.
(4) Excelente resistencia al calor, al agua y a los álcalis.
Además de la resistencia al agua y a los álcalis, también tiene una alta resistencia al calor, por lo que las características de la película no cambiarán en el proceso de procesamiento del cableado TFT.
Hora de publicación: 10-ago-2022