Recubrimiento de Pvd de película fina de pureza elevada de objetivo de farfulla de aleación de CrAlW por encargo

El objetivo de pulverización catódica de tungsteno y aluminio cromado se fabrica mediante pulvimetalurgia para lograr una alta pureza, una microestructura homogénea, una alta densidad y una alta conductividad eléctrica.

La aleación de cromo, aluminio y tungsteno es un material perfecto para las industrias de interconexiones y electrodos. Tiene una superficie lisa, alta tasa de deposición, tenacidad, rigidez dieléctrica y puede mezclarse bien con el material del sustrato.

Rich Special Materials se especializa en la fabricación de objetivos de pulverización catódica y podría producir materiales de pulverización catódica de tungsteno, aluminio y cromo de acuerdo con las especificaciones de los clientes. Nuestros productos se caracterizan por alta pureza, estructura homogénea, alta densidad sin segregación, poros ni grietas. Para obtener más información, póngase en contacto con nosotros.