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Capa de Pvd de la película fina de la pureza elevada de la blanco de la farfulla de la aleación de CrAlSi por encargo

Cromo Aluminio Silicio

Breve descripción:

Categoría

Objetivo de pulverización de aleación

Fórmula química

CrAlSi

Composición

Silicio de aluminio cromado

Pureza

99,9%, 99,95%, 99,99%

Forma

Placas, objetivos de columna, cátodos de arco, hechos a medida

Proceso de producción

Fusión al vacío, PM

Tamaño disponible

Largo≤1000mm, ancho≤200mm


Detalle del producto

Etiquetas de producto

Descripción del objetivo de pulverización de silicio, aluminio y cromo

La fabricación de objetivos de pulverización catódica de silicio y aluminio con cromo comprende los siguientes pasos:
1. Fusión al vacío de Silicio, Aluminio y Crono para obtener aleaciones escalonadas.
2. Molienda y mezcla de polvo.
3.Tratamiento de prensado isostático en caliente para obtener el objetivo de pulverización catódica de aleación de silicio y aluminio de cromo.
Los objetivos de pulverización catódica de silicio, aluminio y cromo se utilizan ampliamente en herramientas de corte y moldes, debido a su resistencia al desgaste y a la oxidación a altas temperaturas para mejorar el rendimiento de la película.
Se formaría una fase amorfa de Si3N4 durante el proceso de PVD de objetivos de CrAlSi. Debido a la incorporación de la fase amorfa de Si3N4, el crecimiento del tamaño del grano podría restringirse y mejorar la propiedad de resistencia a la oxidación a altas temperaturas.

Embalaje objetivo de pulverización de silicio, aluminio y cromo

Nuestro objetivo de pulverización catódica de cromo, aluminio y silicio está claramente etiquetado y etiquetado externamente para garantizar una identificación y un control de calidad eficientes. Se tiene mucho cuidado para evitar cualquier daño que pueda causarse durante el almacenamiento o transporte.

Obtener contacto

Los objetivos de pulverización catódica de cromo, aluminio y silicio de RSM son uniformes y de pureza ultra alta. Están disponibles en varias formas, purezas, tamaños y precios. Nos especializamos en producir materiales de recubrimiento de película delgada de alta pureza con excelente rendimiento, así como la densidad más alta posible y el tamaño de grano promedio más pequeño posible para su uso en recubrimiento de moldes, decoración, piezas de automóviles, vidrio de baja emisividad, circuitos integrados semiconductores, películas delgadas. Resistencia, pantalla gráfica, aeroespacial, grabación magnética, pantalla táctil, batería solar de película delgada y otras aplicaciones de deposición física de vapor (PVD). Envíenos una consulta para conocer los precios actuales de los objetivos de pulverización catódica y otros materiales de deposición que no figuran en la lista.


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