Capa fina de PVD de la película fina de la pureza elevada de la blanco de la farfulla del Cr por encargo
Cromo
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Descripción del objetivo de farfulla de vanadio
El cromo es un metal duro y plateado con un tinte azul. El cromo puro tiene excelente ductilidad y dureza. Tiene una densidad de 7,20 g/cm3, un punto de fusión de 1907 ℃ y un punto de ebullición de 2671 ℃. El cromo tiene una resistencia a la corrosión extremadamente alta y una baja tasa de oxidación incluso a altas temperaturas. El cromo metálico se crea mediante un proceso aluminotérmico a partir de óxido de cromo o un proceso electrolítico utilizando ferrocromo o ácido crómico.
Los objetivos de pulverización catódica de cromo de alta pureza podrían usarse para aplicaciones generales. Los recubrimientos depositados por las dianas de Cromo demuestran un gran comportamiento de solidez y resistencia al desgaste.
Podríamos suministrar cromo en diferentes purezas.
Puridad | Ipureza (ppm) ≤ | ||||||
Fe | Si | Al | C | N | O | S | |
99.2 | 3000 | 2500 | 2000 | 200 | 500 | 2000 | 100 |
99.5 | 2000 | 2000 | 1200 | 200 | 500 | 1500 | 100 |
99.7 | 1200 | 1000 | 1000 | 200 | 300 | 1200 | 100 |
99.8 | 1000 | 800 | 600 | 200 | 200 | 1000 | 100 |
99.9 | 500 | 200 | 300 | 150 | 100 | 500 | 50 |
99,95 | 200 | 100 | 100 | 100 | 100 | 300 | 50 |
Aplicación objetivo de pulverización catódica de cromo
El objetivo de pulverización catódica de cromo se utiliza en muchas aplicaciones de vacío, como revestimientos de vidrio para automóviles, fabricación de células fotovoltaicas, fabricación de baterías, pilas de combustible y revestimientos decorativos y resistentes a la corrosión. El objetivo de pulverización catódica de cromo se utiliza para CD-ROM, decoración por deposición de películas delgadas, pantallas planas, recubrimientos funcionales y otras industrias de almacenamiento de información óptica, etc.
Embalaje objetivo de pulverización catódica de cromo
Nuestro objetivo de pulverización catódica de cromo está claramente etiquetado y etiquetado externamente para garantizar una identificación y un control de calidad eficientes. Se tiene mucho cuidado para evitar cualquier daño que pueda causarse durante el almacenamiento o transporte.
Obtener contacto
Los objetivos de pulverización catódica de cromo de RSM son uniformes y de pureza ultra alta. Están disponibles en varias formas, purezas, tamaños y precios. Nos especializamos en producir materiales de recubrimiento de película delgada de alta pureza con excelente rendimiento, así como la densidad más alta posible y el tamaño de grano promedio más pequeño posible para su uso en recubrimiento de moldes, decoración, piezas de automóviles, vidrio de baja emisividad, circuitos integrados semiconductores, películas delgadas. Resistencia, pantalla gráfica, aeroespacial, grabación magnética, pantalla táctil, batería solar de película delgada y otras aplicaciones de deposición física de vapor (PVD). Envíenos una consulta para conocer los precios actuales de los objetivos de pulverización catódica y otros materiales de deposición que no figuran en la lista.