Capa de Pvd de la película fina de la pureza elevada de la blanco de la farfulla de la aleación de CoNbZr por encargo

Los objetivos de pulverización catódica hechos de materiales ferromagnéticos son fundamentales para la deposición de películas delgadas en industrias como las de almacenamiento de datos y VLSI (integración a muy gran escala)/semiconductores. El cobalto, el niobio y el circonio se fabrican fundiendo las aleaciones en un ambiente de vacío y posteriormente fundidas para formar la forma deseada. El objetivo de pulverización catódica de aleación CoNbZr se utiliza a menudo como fuente de deposición de capas ferromagnéticas en la producción de medios de almacenamiento magnéticos y capas de transición en la fabricación de baterías.

Rich Special Materials se especializa en la fabricación de objetivos de pulverización catódica y podría producir materiales de pulverización catódica de cobalto, niobio y circonio de acuerdo con las especificaciones de los clientes. Para obtener más información, póngase en contacto con nosotros.