Modernaj konstruaĵoj komencis uzi grandajn areojn de vitrolumo. Ĉi tiu aspekto donas al ni pli brilajn ĉambrojn kaj pli larĝajn horizontojn. Aliflanke, la varmo transdonita tra la vitro estas multe pli alta ol la ĉirkaŭaj muroj, kaj la energikonsumo de la tuta konstruaĵo signife pliiĝas..
Kompare kun la utiliga indico de pli ol 90% de malaltradia vitro en evoluintaj landoj, la penetrado de malalta E-vitro en Ĉinio estas nur ĉirkaŭ 12%, kaj Ĉinio ankoraŭ havas multe da spaco por disvolvado.Tamen, kompare kun ordinara vitro kaj interreta malalt-E-vitro, la produktokosto de eksterreta LowE-vitro estas alta, kio limigas la aplikon de certa grado.Hejmaj vitro-prilaboraj entreprenoj havas la devon senĉese redukti la produktokoston de tegaĵo. produktoj, akceli la efektivigon, ŝpari energion, plibonigi la medion kaj atingi socian daŭrigeblan disvolviĝon.
1、Influo de celformo
Grandaj areoj de tegaĵo ofte uzas celmaterialon laŭ formo, inkluzive de ebena orientiĝo kaj rotacia orientiĝo. Ĝeneralaj planarceloj inkluzivas kupran celon, arĝentan celon,Ni-Cr-celo kaj grafita celo. La ĝenerala rotacia celo havas zinkan aluminiocelon, zinkan stanan celon, silician aluminiocelon, stanan celon, titananoksidan celon, zinkoksidan aluminiocelon ktp.La celformo influos la stabilecon kaj filmajn proprietojn de magnetrona sputtering tegaĵo, kaj la utiligo. indico de celo estas tre alta. Post ŝanĝi la forman planadon de celo, la kvalito kaj produktadpotenco de tegaĵo povas esti plibonigitaj kaj la kosto povas esti ŝparita..
2、Influo de relativa denseco kaj senigo de celo
La relativa denseco en la celo estas la rilatumo de la praktika denseco al la teoria denseco de la celo, la teoria denseco de la ununura komponenta celo estas la kristala denseco, kaj la teoria denseco de la aloja aŭ miksa celo estas kalkulita laŭ la teoria. denseco de ĉiu elemento kaj la proporcio en la alojo aŭ miksaĵo.. La cela aranĝo de la termika ŝprucilo estas pora, tre oksigena (eĉ kun vakua ŝprucaĵo, la produktado de oksidoj kaj nitraj komponaĵoj en la aloja celo estas neevitebla), kaj la aspekto estas griza kaj mankas metala brilo. Adsorbitaj malpuraĵoj kaj humideco estas la ĉefaj fontoj de poluo.
3、Influo de cela partiklograndeco kaj kristala direkto
En la sama pezo de celo, la celo kun malgranda partiklograndeco estas pli rapida ol la celo kun granda partiklograndeco. Ĉi tio estas ĉefe ĉar la partikla limo en la procezo de ŝprucado estas facile invadebla, ju pli la partikla limo, des pli rapida la filmoformado. La partiklograndeco ne nur influas la ŝprucrapidecon, sed ankaŭ influas la kvaliton de filmformado. Ekzemple, en la produktada procezo de EowE-produktoj, NCr funkcias kiel la bontena tavolo de infraruĝa reflekta tavolo Ag, kaj ĝia kvalito havas grandan influon sur tegantaj produktoj. Pro la granda formorta koeficiento de NiCr filmtavolo, ĝi estas ĝenerale maldika (ĉirkaŭ 3nm).Se la partiklograndeco estas tro granda, la sputtering tempo fariĝas pli mallonga, la densiĝo de la filmtavolo plimalboniĝas, la bontena efiko de la Ag-tavolo. malpliiĝas, kaj la oksigena senkovraĵo de la tegaĵoj okazas.
konkludo
La forma planado de celmaterialo ĉefe influas la utiligan indicon de celmaterialo. Racia grandeca planado povas plibonigi la utiligan indicon de cela materialo kaj ŝpari la koston. Ju pli malgranda la partiklograndeco, des pli rapida la tegrapideco, des pli bona la unuformeco. Ju pli alta la pureco kaj denseco, des pli malalta la poreco, des pli bona la filmkvalito, kaj des pli malalta la probableco de senŝargiĝo-redukto de skorio.
Afiŝtempo: Apr-27-2022