Molibdeno estas metala elemento, ĉefe uzata en la fero kaj ŝtalindustrio, plejparto de kiu estas rekte uzata en ŝtalfarado aŭ gisfero post kiam industria molibdena rusto estas premata, kaj malgranda parto de ĝi estas fandita en feromolibdenon kaj poste uzata en ŝtalo. farante. Ĝi povas plibonigi la forton, malmolecon, veldeblecon kaj fortikecon de la alojo, sed ankaŭ plibonigi ĝian alttemperaturan forton kaj korodan reziston. Do en kiuj kampoj estas uzataj celoj de molibdeno sputtering? La sekvanta estas la parto de redaktisto de RSM.
Apliko de molibdeno sputtering celmaterialo
En la elektronika industrio, molibdena sputtering celo estas ĉefe uzata en plata ekrano, maldika filmo suna ĉela elektrodo kaj cableado materialo kaj duonkondukta baro materialo. Ĉi tiuj baziĝas sur la alta frostopunkto de molibdeno, alta elektra kondukteco, malalta specifa impedanco, pli bona koroda rezisto kaj bona media rendimento.
Molibdeno estas unu el la preferataj materialoj por ŝpruciga celo de plata ekrano pro siaj avantaĝoj de nur 1/2 da impedanco kaj filmstreso kompare kun kromo kaj neniu media poluo. Krome, la uzo de molibdeno en LCD-komponentoj povas multe plibonigi la agadon de LCD en brileco, kontrasto, koloro kaj vivo.
En la platpanela ekranindustrio, unu el la ĉefaj merkataj aplikoj de molibdena sputtering celo estas TFT-LCD. Merkata esploro indikas, ke la venontaj malmultaj jaroj estos la pinto de LCD-disvolviĝo, kun jara kresko-rapideco de ĉirkaŭ 30%. Kun la disvolviĝo de LCD, la konsumo de LCD sputtering celo ankaŭ pliiĝas rapide, kun ĉiujara kreskorapideco de ĉirkaŭ 20%. En 2006, la tutmonda postulo je molibdena sputtering celmaterialo estis proksimume 700T, kaj en 2007, ĝi estis proksimume 900T.
Krom platpanela ekranindustrio, kun la disvolviĝo de nova energia industrio, la apliko de molibdena sputtering celo en maldika filmo sunaj fotovoltaikaj ĉeloj pliiĝas. CIGS (Cu-india Galio-Seleno) maldika filmo-baterio-elektrodotavolo estas formita sur molibdena sputtercelo per sputtering.
Afiŝtempo: Jul-16-2022