Χονδρικό TiAl Sputtering Target High Purity Thin Film Coating Pvd Custom Made Κατασκευαστής και Προμηθευτής

Τιτάνιο Αλουμίνιο

TiAl Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Featured Image

Σύντομη περιγραφή:

Κατηγορία	Στόχευση κράματος
Χημικός τύπος	TiAl
Σύνθεση	Τιτάνιο Αλουμίνιο
Καθαρότητα	99,9%, 99,95%, 99,99%
Σχήμα	Πλάκες, Στόχοι στηλών, Κάθοδοι τόξων, Προσαρμοσμένες
Διαδικασία Παραγωγής	Τήξη υπό κενό, PM
Διαθέσιμο μέγεθος	L≤2000mm, W≤200mm

Στείλτε μας email

Λεπτομέρεια προϊόντος

Ετικέτες προϊόντων

Βίντεο

Περιγραφή στόχου με επιμετάλλωση αλουμινίου τιτανίου

Η απαίτηση της ποιότητας στόχου για επίστρωση με ψεκασμό είναι υψηλότερη από αυτή της παραδοσιακής βιομηχανίας υλικών. Η ομοιόμορφη μικροδομή του στόχου επηρεάζει άμεσα την απόδοση του sputtering. Διαθέτουμε ολοκληρωμένο σύστημα διαχείρισης ποιότητας και επιλέγουμε πρώτες ύλες υψηλής καθαρότητας και τις αναμειγνύουμε επιμελώς για να εξασφαλίσουμε ομοιογένεια. Ο στόχος εκτόξευσης από κράμα αλουμινίου τιτανίου παράγεται με τη μέθοδο της θερμής συμπίεσης κενού.

Οι στόχοι μας για εκτόξευση αλουμινίου τιτανίου θα μπορούσαν να παρέχουν μια εξαιρετική ανθεκτική στην οξείδωση επίστρωση νιτριδίου, το νιτρίδιο αλουμινίου τιτανίου (TiAlN). Το TiAlN είναι η τρέχουσα επικρατούσα τάση ως φιλμ για εργαλεία κοπής, συρόμενα εξαρτήματα και τριβικές επικαλύψεις. Έχει υψηλή σκληρότητα, ανθεκτικότητα, απόδοση ανθεκτική στη φθορά και θερμοκρασία οξείδωσης.

Οι τυπικοί μας στόχοι TiAl και οι ιδιότητές τους

	Ti-75Αλ στο%	Ti-70Αλ στο%	Ti-67Αλ στο%	Ti-60Αλ στο%	Ti-50Αλ στο%	Ti-30Αλ στο%	Ti-20Αλ στο%	Ti-14Αλ στο%
Καθαρότητα (%)	99,7	99,7	99,7	99,7	99,8/99,9	99,9	99,9	99,9
Πυκνότητα(g/cm³)	3.1	3.2	3.3	3.4	3,63/3,85	3,97	4.25	4.3
Gβροχή Μέγεθος(μm)	100	100	100	100	100/-	-	-	-
Διαδικασία	ΙΣΧΙΟ	ΙΣΧΙΟ	ΙΣΧΙΟ	ΙΣΧΙΟ	ΙΣΧΙΟ/VAR	VAR	VAR	VAR

Συσκευασία στόχων από Titanium Aluminium Sputtering

Ο στόχος διασκορπισμού από αλουμίνιο τιτανίου έχει σαφή σήμανση και σήμανση εξωτερικά για να διασφαλιστεί η αποτελεσματική αναγνώριση και ο ποιοτικός έλεγχος. Λαμβάνεται μεγάλη προσοχή για να αποφευχθεί οποιαδήποτε ζημιά που μπορεί να προκληθεί κατά την αποθήκευση ή τη μεταφορά.

Λήψη Επικοινωνίας

Οι στόχοι εκτόξευσης αλουμινίου τιτανίου της RSM είναι εξαιρετικά υψηλής καθαρότητας και ομοιόμορφοι. Διατίθενται σε διάφορες μορφές, καθαρότητες, μεγέθη και τιμές.
Θα μπορούσαμε να παρέχουμε μια ποικιλία γεωμετρικών μορφών: σωλήνες, κάθοδοι τόξου, επίπεδες ή επί παραγγελία, και μεγάλη ποικιλία αναλογιών αλουμινίου. Τα προϊόντα μας διαθέτουν εξαιρετικές μηχανικές ιδιότητες, ομοιογενή μικροδομή, γυαλισμένη επιφάνεια χωρίς διαχωρισμό, πόρους ή ρωγμές.
Ειδικευόμαστε στην παραγωγή υλικών επικάλυψης λεπτής μεμβράνης υψηλής καθαρότητας με εξαιρετική απόδοση καθώς και με την υψηλότερη δυνατή πυκνότητα και τα μικρότερα δυνατά μέσα μεγέθη κόκκων για χρήση σε επικάλυψη καλουπιών, διακόσμηση, εξαρτήματα αυτοκινήτων, γυαλί χαμηλού E, ολοκληρωμένο κύκλωμα ημιαγωγών, λεπτή μεμβράνη αντίσταση, γραφική οθόνη, αεροδιαστημική, μαγνητική εγγραφή, αφή οθόνη, ηλιακή μπαταρία λεπτής μεμβράνης και άλλες εφαρμογές φυσικής εναπόθεσης ατμών (PVD). Στείλτε μας ένα ερώτημα για την τρέχουσα τιμολόγηση των στόχων ψεκασμού και άλλων υλικών εναπόθεσης που δεν αναφέρονται.