Επικάλυψη Pvd λεπτής μεμβράνης υψηλής καθαρότητας PbBi Sputtering Target Custom Made
Μόλυβδος-Βισμούθιο
Περιγραφή στόχου μόλυβδου-βισμούθιου
Το κράμα μολύβδου βισμούθιου είναι γνωστό για το χαμηλό σημείο τήξης του. Τα κράματα χαμηλής θερμοκρασίας τήξης συνήθως περιέχουν περίπου 20% έως 25% μόλυβδο, βισμούθιο και μερικές φορές άλλα μέταλλα, όπως κασσίτερο, κάδμιο ή ίνδιο. Χρησιμοποιούνται ευρέως στη βιομηχανία οπτικών για μπλοκάρισμα φακών, διατήρηση εργασίας στη μηχανική ακριβείας, πρωτότυπα, βαλβίδες ασφαλείας, εργαλεία πρέσας για περιορισμένες διαδρομές, κάμψη σωλήνων για περίπλοκα προφίλ, ακτινοθεραπεία για την κατασκευή μπλοκ θωράκισης και πολλές άλλες εφαρμογές.
Το κράμα μολύβδου-βισμούθιου έχει σημείο τήξης 124°C, είναι κατάλληλο υλικό για ψυκτικό υγρό σε πυρηνικούς αντιδραστήρες, παραγωγή υδρογόνου και στόχους θρυμματισμού για παραγωγή νετρονίων χωρίς σχάση.
Συστατικό κράματος χαμηλής θερμοκρασίας τήξης
| No | Cενθέσεως(wt.%) | Θερμοκρασία ζώνης τήξης/℃ | Pκαθαρότητα | Tip | |||||
|
| Bi | Pb | Sn | Cd | Sτάρτα | Finish | Σημείο ροής αυτοβάρους | (%) | |
| 1 | 50,0 | 26.7 | 13.3 | 10,0 | 70 | 70 | 70 |
| ευτηκτική |
| 2 | 52.0 | 32.0 | 16.0 | - | 95 | 95 | 95 |
| ευτηκτική |
| 3 | 54.4 | 43.6 | 1.0 | 1.0 | 104 | 115 | 112 |
| Μη ευτηκτική |
| 4 | 55.5 | 44.5 | - | - | - | - | - | 99.995 | |
Συσκευασία στόχων μολύβδου βισμούθιου
Ο στόχος διασκορπισμού μολύβδου βισμούθιου έχει σαφώς σήμανση και ετικέτα εξωτερικά για να διασφαλιστεί η αποτελεσματική αναγνώριση και ο ποιοτικός έλεγχος. Λαμβάνεται μεγάλη προσοχή για να αποφευχθεί οποιαδήποτε ζημιά που μπορεί να προκληθεί κατά την αποθήκευση ή τη μεταφορά.
Λήψη Επικοινωνίας
Οι στόχοι εκτόξευσης μολύβδου βισμούθιου της RSM είναι εξαιρετικά υψηλής καθαρότητας και ομοιόμορφοι. Διατίθενται σε διάφορες μορφές, καθαρότητες, μεγέθη και τιμές. Ειδικευόμαστε στην παραγωγή υλικών επικάλυψης λεπτής μεμβράνης υψηλής καθαρότητας με εξαιρετική απόδοση καθώς και με την υψηλότερη δυνατή πυκνότητα και τα μικρότερα δυνατά μέσα μεγέθη κόκκων για χρήση σε επικάλυψη καλουπιών, διακόσμηση, εξαρτήματα αυτοκινήτων, γυαλί χαμηλού E, ολοκληρωμένο κύκλωμα ημιαγωγών, λεπτή μεμβράνη αντίσταση, γραφική οθόνη, αεροδιαστημική, μαγνητική εγγραφή, αφή οθόνη, ηλιακή μπαταρία λεπτής μεμβράνης και άλλες εφαρμογές φυσικής εναπόθεσης ατμών (PVD). Στείλτε μας ένα ερώτημα για την τρέχουσα τιμολόγηση των στόχων ψεκασμού και άλλων υλικών εναπόθεσης που δεν αναφέρονται.