Επίστρωση Pvd λεπτής μεμβράνης υψηλής καθαρότητας NiCrAlSi Sputtering Target Custom Made

Ο στόχος NiCrAlSi Sputtering παράγεται από την τήξη κενού, τη χύτευση και τη θερμή επεξεργασία για να διασφαλιστεί η υψηλή συνοχή, το λεπτό μέγεθος κόκκων και η καλή απόδοση.

Λόγω της εξαιρετικής υψηλής αντίστασης, της καλής αντιδιαβρωτικής συμπεριφοράς, της αντοχής σε υψηλές θερμοκρασίες και της συγκολλητικότητας, το κράμα νικελίου χρωμίου αλουμινίου πυριτίου χρησιμοποιείται ευρέως σε πολλές βιομηχανικές εφαρμογές, συμπεριλαμβανομένης της μεταλλουργίας, της μηχανικής κατασκευής και των οικιακών συσκευών.

Η Rich Special Materials ειδικεύεται στην Κατασκευή Στόχου Στόχου και θα μπορούσε να παράγει Υλικά Σκόπευσης Πυριτίου Νικελίου Χρώμιου Αλουμινίου σύμφωνα με τις προδιαγραφές των πελατών. Για περισσότερες πληροφορίες, επικοινωνήστε μαζί μας.