Με την αύξηση της ζήτησης της αγοράς, όλο και περισσότεροι τύποι στόχων sputtering ενημερώνονται συνεχώς. Μερικοί είναι οικείοι και άλλοι άγνωστοι στους πελάτες. Τώρα, θα θέλαμε να μοιραστούμε μαζί σας ποιοι είναι οι τύποι στόχων διασκορπισμού μαγνητρόν.
Ο στόχος διασκορπισμού έχει τους ακόλουθους τύπους: στόχος επίστρωσης μετάλλου, στόχος επίστρωσης με διασκορπισμό κράματος, στόχος επίστρωσης κεραμικής διασκορπισμού, στόχος επίστρωσης κεραμικού βοριδίου, στόχος διασκορπισμού κεραμικού καρβιδίου, στόχος διασκορπισμού κεραμικού φθορίου, στόχος επίστρωσης με φθοριούχο κεραμικό, στόχος επίστρωσης κεραμικού οξειδώματος νιτριδίου, στόχος επίστρωσης κεραμικού κεραμικού, , πυριτιδικός κεραμικός στόχος διασκορπισμού, στόχος κεραμικού θειούχου εκτόξευσης, στόχος κεραμικού τελλουριδίου, άλλοι κεραμικοί στόχοι, κεραμικός στόχος οξειδίου πυριτίου με πρόσμιξη χρωμίου (CR SiO), στόχος φωσφιδίου ινδίου (INP), στόχος αρσενιδίου μολύβδου (pbas), στόχος αρσενιδίου ινδίου (InA) .
Η διασκορπισμός μαγνητρονίων χωρίζεται γενικά σε δύο τύπους: διασκορπισμό DC και ραδιοσυχνότητες. Η αρχή του εξοπλισμού διασκορπισμού συνεχούς ρεύματος είναι απλή και ο ρυθμός του είναι επίσης γρήγορος κατά την εκτόξευση μετάλλου. Η εκτόξευση RF χρησιμοποιείται ευρέως. Εκτός από την εκτόξευση αγώγιμων δεδομένων, μπορεί επίσης να εκτοξεύει μη αγώγιμα δεδομένα. Ταυτόχρονα, ο στόχος επιμετάλλωσης εκτελεί επίσης αντιδραστική επιμετάλλωση για την παρασκευή σύνθετων δεδομένων όπως οξείδια, νιτρίδια και καρβίδια. Εάν η συχνότητα ραδιοσυχνοτήτων αυξηθεί, θα γίνει ψεκασμός πλάσματος μικροκυμάτων. Επί του παρόντος, χρησιμοποιείται συνήθως η επιμετάλλωση πλάσματος μικροκυμάτων με συντονισμό ηλεκτρονίων κυκλοτρονίων (ECR).
Ώρα δημοσίευσης: 18 Μαΐου 2022