Καλώς ήρθατε στις ιστοσελίδες μας!

The Magnetron Sputtering Principles for Sputtering Targets

Πολλοί χρήστες πρέπει να έχουν ακούσει για το προϊόν του στόχου sputtering, αλλά η αρχή του sputtering target θα πρέπει να είναι σχετικά άγνωστη. Τώρα, ο συντάκτης τουΠλούσιο ειδικό υλικό (RSM) μοιράζεται τις αρχές sputtering magnetron του στόχου sputtering.

 https://www.rsmtarget.com/

Ένα ορθογώνιο μαγνητικό πεδίο και ένα ηλεκτρικό πεδίο προστίθενται μεταξύ του διασκορπισμένου ηλεκτροδίου στόχου (κάθοδος) και της ανόδου, το απαιτούμενο αδρανές αέριο (γενικά αέριο Ar) γεμίζεται στον θάλαμο υψηλού κενού, ο μόνιμος μαγνήτης σχηματίζει ένα μαγνητικό πεδίο Gauss 250 ~ 350 την επιφάνεια των δεδομένων στόχου, και το ορθογώνιο ηλεκτρομαγνητικό πεδίο σχηματίζεται με το ηλεκτρικό πεδίο υψηλής τάσης.

Υπό την επίδραση του ηλεκτρικού πεδίου, το αέριο Ar ιονίζεται σε θετικά ιόντα και ηλεκτρόνια. Μια ορισμένη αρνητική υψηλή τάση προστίθεται στον στόχο. Η επίδραση του μαγνητικού πεδίου στα ηλεκτρόνια που εκπέμπονται από τον πόλο στόχο και η πιθανότητα ιονισμού του αερίου που λειτουργεί αυξάνονται, σχηματίζοντας ένα πλάσμα υψηλής πυκνότητας κοντά στην κάθοδο. Υπό την επίδραση της δύναμης Lorentz, τα ιόντα Ar επιταχύνονται στην επιφάνεια στόχο και βομβαρδίζουν την επιφάνεια στόχο με πολύ υψηλή ταχύτητα, Τα διασκορπισμένα άτομα στον στόχο ακολουθούν την αρχή της μετατροπής της ορμής και πετούν μακριά από την επιφάνεια στόχο στο υπόστρωμα με υψηλή κινητική ενέργεια για κατάθεση ταινιών.

Η διασκορπισμός με μαγνήτρο γενικά χωρίζεται σε δύο τύπους: Παραποτάμιο sputtering και RF sputtering. Η αρχή του εξοπλισμού παραπόταμου ψεκασμού είναι απλή και ο ρυθμός του είναι επίσης γρήγορος κατά την εκτόξευση μετάλλου. Η εκτόξευση RF χρησιμοποιείται ευρέως. Εκτός από την εκτόξευση αγώγιμων υλικών, μπορεί επίσης να εκτοξεύει μη αγώγιμα υλικά. Ταυτόχρονα, διεξάγει επίσης αντιδραστική εκτόξευση για την παρασκευή υλικών από οξείδια, νιτρίδια, καρβίδια και άλλες ενώσεις. Εάν η συχνότητα ραδιοσυχνοτήτων αυξηθεί, θα γίνει ψεκασμός πλάσματος μικροκυμάτων. Τώρα, χρησιμοποιείται συνήθως η ψεκασμός πλάσματος μικροκυμάτων με συντονισμό ηλεκτρονίων κυκλοτρονίων (ECR).


Ώρα δημοσίευσης: Μάιος-31-2022