Όπως όλοι γνωρίζουμε, υπάρχουν πολλές προδιαγραφές των στόχων sputtering και τα πεδία εφαρμογής τους είναι επίσης πολύ μεγάλα. Οι τύποι στόχων που χρησιμοποιούνται συνήθως σε διαφορετικά πεδία είναι επίσης διαφορετικοί. Σήμερα, ας μάθουμε για την ταξινόμηση των πεδίων εφαρμογών στόχων sputtering με τον επεξεργαστή του RSM!
1, Ορισμός του στόχου sputtering
Το Sputtering είναι μία από τις κύριες τεχνολογίες για την παρασκευή υλικών λεπτής μεμβράνης. Χρησιμοποιεί τα ιόντα που παράγονται από την πηγή ιόντων για να επιταχύνει και να συγκεντρωθεί στο κενό για να σχηματίσει μια δέσμη ιόντων υψηλής ταχύτητας, να βομβαρδίσει τη στερεά επιφάνεια και τα ιόντα ανταλλάσσουν κινητική ενέργεια με τα άτομα στη στερεά επιφάνεια, έτσι ώστε τα άτομα στο στερεό επιφάνεια διαχωρίζονται από το στερεό και εναποτίθενται στην επιφάνεια του υποστρώματος. Το βομβαρδισμένο στερεό είναι η πρώτη ύλη για την προετοιμασία της λεπτής μεμβράνης που εναποτίθεται με ψεκασμό, η οποία ονομάζεται στόχος εκτόξευσης.
2, Ταξινόμηση πεδίων εφαρμογών στόχων διασκορπισμού
1. Στόχος ημιαγωγών
(1) Κοινοί στόχοι: κοινοί στόχοι σε αυτόν τον τομέα περιλαμβάνουν μέταλλα υψηλού σημείου τήξης όπως ταντάλιο / χαλκός / τιτάνιο / αλουμίνιο / χρυσός / νικέλιο.
(2) Χρήση: χρησιμοποιείται κυρίως ως βασικές πρώτες ύλες για ολοκληρωμένα κυκλώματα.
(3) Απαιτήσεις απόδοσης: υψηλές τεχνικές απαιτήσεις για καθαρότητα, μέγεθος, ενοποίηση κ.λπ.
2. Στόχος για επίπεδες οθόνες
(1) Κοινοί στόχοι: οι κοινοί στόχοι σε αυτόν τον τομέα περιλαμβάνουν αλουμίνιο / χαλκό / μολυβδαίνιο / νικέλιο / νιόβιο / πυρίτιο / χρώμιο κ.λπ.
(2) Χρήση: αυτού του είδους ο στόχος χρησιμοποιείται κυρίως για διάφορους τύπους ταινιών μεγάλης περιοχής, όπως τηλεοράσεις και φορητούς υπολογιστές.
(3) Απαιτήσεις απόδοσης: υψηλές απαιτήσεις για καθαρότητα, μεγάλη επιφάνεια, ομοιομορφία κ.λπ.
3. Υλικό στόχου για ηλιακή κυψέλη
(1) Κοινοί στόχοι: αλουμίνιο / χαλκός / μολυβδαίνιο / χρώμιο / ITO / Ta και άλλοι στόχοι για ηλιακά κύτταρα.
(2) Χρήση: χρησιμοποιείται κυρίως σε "στρώμα παραθύρου", στρώμα φραγμού, ηλεκτρόδιο και αγώγιμο φιλμ.
(3) Απαιτήσεις απόδοσης: υψηλές τεχνικές απαιτήσεις και ευρύ φάσμα εφαρμογών.
4. Στόχος για αποθήκευση πληροφοριών
(1) Κοινοί στόχοι: κοινοί στόχοι κοβαλτίου / νικελίου / σιδηροκράματος / χρωμίου / τελλουρίου / σεληνίου και άλλα υλικά για αποθήκευση πληροφοριών.
(2) Χρήση: αυτό το είδος υλικού στόχου χρησιμοποιείται κυρίως για τη μαγνητική κεφαλή, το μεσαίο στρώμα και το κάτω στρώμα της μονάδας οπτικού δίσκου και του οπτικού δίσκου.
(3) Απαιτήσεις απόδοσης: απαιτείται υψηλή πυκνότητα αποθήκευσης και υψηλή ταχύτητα μετάδοσης.
5. Στόχος για τροποποίηση εργαλείου
(1) Κοινοί στόχοι: κοινοί στόχοι όπως τιτάνιο / ζιρκόνιο / κράμα αλουμινίου χρωμίου τροποποιημένο με εργαλεία.
(2) Χρήση: συνήθως χρησιμοποιείται για την ενίσχυση της επιφάνειας.
(3) Απαιτήσεις απόδοσης: απαιτήσεις υψηλών επιδόσεων και μεγάλη διάρκεια ζωής.
6. Στόχοι για ηλεκτρονικές συσκευές
(1) Κοινοί στόχοι: κοινοί στόχοι από κράμα αλουμινίου/πυρικτόνου για ηλεκτρονικές συσκευές
(2) Σκοπός: χρησιμοποιείται γενικά για αντιστάσεις και πυκνωτές λεπτής μεμβράνης.
(3) Απαιτήσεις απόδοσης: μικρό μέγεθος, σταθερότητα, χαμηλός συντελεστής θερμοκρασίας αντίστασης
Ώρα δημοσίευσης: 27 Ιουλίου 2022