Επίστρωση Pvd λεπτής μεμβράνης υψηλής καθαρότητας FeCr Sputtering Target Custom Made

Ο στόχος εκτόξευσης κράματος σιδήρου χρωμίου κατασκευάζεται μέσω τήξης υπό κενό ή μεταλλουργίας σκόνης. Το κράμα Fe-Cr έχει χρησιμοποιηθεί ως βασικό συστατικό στη βιομηχανία παραγωγής χάλυβα. Η προσθήκη χρωμίου στον χάλυβα βελτιώνει την αντίσταση στην οξείδωση και τη διάβρωση, ενώ το χρώμιο που προστίθεται στη χύτευση σιδήρου θα αυξήσει τη σκληρότητα και θα βελτιώσει την αντοχή στη φθορά και τη μηχανική ικανότητα.

Ο στόχος ψεκασμού σιδήρου χρωμίου χρησιμοποιείται για εναπόθεση λεπτής μεμβράνης, διακόσμηση, ημιαγωγούς, οθόνη, LED και φωτοβολταϊκές συσκευές, λειτουργική επίστρωση τόσο ωραία όσο και άλλες βιομηχανία αποθήκευσης οπτικών πληροφοριών, βιομηχανία επικάλυψης γυαλιού όπως γυαλί αυτοκινήτου και αρχιτεκτονικό γυαλί, οπτική επικοινωνία κ.λπ.

Η Rich Special Materials εξειδικεύεται στην Κατασκευή Στόχου Σκόπευσης και θα μπορούσε να παράγει Υλικά Σιδήρου Χρονίου Sputtering σύμφωνα με τις προδιαγραφές των πελατών. Για περισσότερες πληροφορίες, επικοινωνήστε μαζί μας.