Επικάλυψη Pvd λεπτής μεμβράνης υψηλής καθαρότητας CrFe Sputtering Target Custom Made

Ο στόχος εκτόξευσης από κράμα σιδήρου χρωμίου κατασκευάζεται μέσω τήξης κενού ή μεταλλουργίας σκόνης. Το κράμα CrFe έχει χρησιμοποιηθεί ως βασικό συστατικό στη βιομηχανία παραγωγής χάλυβα. Η προσθήκη χρωμίου στο χάλυβα βελτιώνει την αντοχή στην οξείδωση και τη διάβρωση, ενώ το χρώμιο προστίθεται στη χύτευση σιδήρου
θα αύξανε τη σκληρότητα και θα βελτίωνε την αντίσταση στη φθορά και τη μηχανική ικανότητα.

Η Rich Special Materials ειδικεύεται στην Κατασκευή Στόχου Σκουπίσματος και θα μπορούσε να παράγει Υλικά Χρώμιου Σιδήρου Sputtering σύμφωνα με τις προδιαγραφές των πελατών.

Για περισσότερες πληροφορίες, επικοινωνήστε μαζί μας.