CrAl Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film Eating PVD Custom Made
Χρώμιο Αλουμίνιο
Η κατασκευή των στόχων αλουμινίου χρωμίου περιλαμβάνει τα ακόλουθα βήματα:
1. Άλεσμα και ανάμειξη σε σκόνη.
2. Θερμή ισοστατική επεξεργασία συμπίεσης για τη λήψη ημικατεργασμένων προϊόντων.
3. Μηχανική κατεργασία του ακατέργαστου υλικού στόχου κράματος αλουμινίου χρωμίου για να ληφθεί το υλικό-στόχος επιμετάλλωσης από κράμα αλουμινίου χρωμίου.
Κατά τη διαδικασία εναπόθεσης των στόχων επιμετάλλωσης CrAl, σχηματίζεται μια σκληρή επίστρωση αλουμινίου-χρωμίου-νιτριδίου (AlCrN). Αυτή η επίστρωση παρουσιάζει υψηλή σκληρότητα και ιδιότητες αντοχής στην οξείδωση ακόμη και σε υψηλή θερμοκρασία. Οι κόφτες θα μπορούσαν να λειτουργούν με υψηλή τροφοδοσία για να αυξήσουν την παραγωγικότητα και να βελτιώσουν την ποιότητα όταν χρησιμοποιούνται μηχανές CNC.
Οι τυπικοί μας στόχοι AlCr και οι ιδιότητές τους
| Cr-70Alστο% | Cr-60Alστο% | Cr-50Alστο% | |
| Καθαρότητα (%) | 99,8/99,9/99,95 | 99,8/99,9/99,95 | 99,8/99,9/99,95 |
| Πυκνότητα(g/cm3) | 3.7 | 4.35 | 4,55 |
| Gβροχή Μέγεθος(μm) | 100/50 | 100/50 | 100/50 |
| Διαδικασία | ΙΣΧΙΟ | ΙΣΧΙΟ | ΙΣΧΙΟ |
Η Rich Special Materials ειδικεύεται στην Κατασκευή Στόχου Στόχου και θα μπορούσε να παράγει Υλικά Αλουμινίου Χρώμιου Sputtering σύμφωνα με τις προδιαγραφές των πελατών. Τα προϊόντα μας διαθέτουν εξαιρετικές μηχανικές ιδιότητες, ομοιογενή δομή, γυαλισμένη επιφάνεια χωρίς διαχωρισμό, πόρους ή ρωγμές. Για περισσότερες πληροφορίες, επικοινωνήστε μαζί μας.
Κατηγορίες προϊόντων
-
AlCu Sputtering Target High Purity Thin Film PV...
-
AlNi Sputtering Target High Purity Thin F...
-
AlSiCu κράμα Sputtering Target High Purity Thin...
-
AlZn Sputtering Target High Purity Thin Film PV...
-
AlSnCu Sputtering Target λεπτή μεμβράνη υψηλής καθαρότητας ...
-
AlNb Sputtering Target High Purity Thin F...