CoNiFe Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made

Ο στόχος εκτόξευσης κοβαλτίου νικελίου σιδήρου κατασκευάζεται με τήξη κενού. Χρησιμοποιείται ευρέως ως ηλεκτρονική συσκευή κενού, όπως σωλήνας πυροδότησης, σωλήνας ταλάντωσης, ignitron και τρανζίστορ. Παρουσιάζει συντελεστή γραμμικής διαστολής παρόμοιο με το σκληρό γυαλί κάτω από -80~450℃. Ως εκ τούτου, χρησιμοποιείται συχνά για την παραγωγή εξαρτημάτων υψηλής αεροστεγανοποίησης με σκληρό γυαλί ή κεραμικά. Οι επικαλύψεις που εναποτίθενται από τους στόχους Cobalt Nickel Iron έχουν εξαιρετικές μαλακές μαγνητικές ιδιότητες.

Η Rich Special Materials είναι Κατασκευαστής Sputtering Target και μπορεί να παράγει Υλικά Κοβαλτίου Νικελίου Σιδήρου Sputtering σύμφωνα με τις προδιαγραφές των πελατών. Για περισσότερες πληροφορίες, επικοινωνήστε μαζί μας.