Επικάλυψη λεπτού φιλμ Pvd υψηλής καθαρότητας CoNbZr Sputtering Target Custom Made

Οι στόχοι διασκορπισμού από σιδηρομαγνητικά υλικά είναι κρίσιμοι για την εναπόθεση λεπτής μεμβράνης σε βιομηχανίες όπως η αποθήκευση δεδομένων και το VLSI (ολοκλήρωση πολύ μεγάλης κλίμακας)/ημιαγωγοί. Νιόβιο κοβαλτίου Το ζιρκόνιο κατασκευάζεται με την τήξη των κραμάτων σε περιβάλλον κενού και την επακόλουθη χύτευση για να σχηματιστεί το επιθυμητό σχήμα στόχου. Ο στόχος εκτόξευσης κράματος CoNbZr χρησιμοποιείται συχνά ως πηγή εναπόθεσης για το σιδηρομαγνητικό στρώμα στην παραγωγή μαγνητικών μέσων αποθήκευσης και ως μεταβατικό στρώμα στην κατασκευή μπαταριών.

Η Rich Special Materials εξειδικεύεται στην Κατασκευή Στόχου Σκόπευσης και θα μπορούσε να παράγει Υλικά Σκόπευσης Νιόβιου Ζιρκονίου κοβαλτίου σύμφωνα με τις προδιαγραφές των πελατών. Για περισσότερες πληροφορίες, επικοινωνήστε μαζί μας.