Επίστρωση PVD λεπτής μεμβράνης υψηλής καθαρότητας AlZn Sputtering Target Custom Made

Οι καθαρές μορφές ψευδαργύρου χρησιμοποιούνται συχνά για χυτές μεγάλες ποσότητες μικρών εξαρτημάτων λόγω του υψηλού ειδικού βάρους του, αλλά δεν προτιμάται για πολλούς άλλους τύπους εφαρμογών επειδή θεωρείται ασθενές μέταλλο που έχει έως και 50 τοις εκατό μικρότερη αντοχή σε εφελκυσμό από τον χάλυβα. . Προκειμένου να μειωθούν οι αρνητικές ιδιότητες του ψευδαργύρου, όπως η χαμηλή αντοχή σε εφελκυσμό και ευθραυστότητα, συχνά συνδυάζεται με ένα ορισμένο ποσοστό αλουμινίου. Το κράμα AlZn παρουσιάζει καλή αντοχή, σκληρότητα, ρουλεμάν, μηχανικές ιδιότητες απόσβεσης και απόδοση χύτευσης και χρησιμοποιείται ευρέως σε μια ποικιλία βιομηχανιών, συμπεριλαμβανομένων των ρουλεμάν, χύτευσης, πετρελαίου και αερίου, αεροδιαστημικής και τουρμπίνας.

Ένα λεπτό φιλμ οξειδίου ψευδαργύρου (AZO) με πρόσμειξη αλουμινίου θα μπορούσε να σχηματιστεί κατά τη διαδικασία εναπόθεσης του στόχου εκτόξευσης ψευδαργύρου αλουμινίου. Χρησιμοποιείται σε βιομηχανίες γυαλιού Low-E, πάνελ αφής, LCD. Ο στόχος αλουμινίου ψευδαργύρου έχει ένα μεγάλο πλεονέκτημα σε σύγκριση με τον κεραμικό στόχο ψεκασμού για τη διαθεσιμότητά του για μεγάλο μέγεθος.

Η Rich Special Materials εξειδικεύεται στην Κατασκευή Στόχου Σκόπευσης και θα μπορούσε να παράγει Υλικά Ψευδάργυρου από Αλουμίνιο σύμφωνα με τις προδιαγραφές των πελατών. Τα προϊόντα μας διαθέτουν εξαιρετικές μηχανικές ιδιότητες, ομοιογενή δομή, γυαλισμένη επιφάνεια χωρίς διαχωρισμό, πόρους ή ρωγμές. Για περισσότερες πληροφορίες, επικοινωνήστε μαζί μας.