Κράμα AlTi Sputtering Target High Purity

Η απαίτηση της ποιότητας στόχου για επίστρωση με ψεκασμό είναι υψηλότερη από αυτή της παραδοσιακής βιομηχανίας υλικών. Η ομοιόμορφη μικροδομή του στόχου επηρεάζει άμεσα την απόδοση του sputtering. Διαθέτουμε ολοκληρωμένο σύστημα διαχείρισης ποιότητας και επιλέγουμε πρώτες ύλες υψηλής καθαρότητας και τις αναμειγνύουμε επιμελώς για να εξασφαλίσουμε ομοιογένεια. Ο στόχος εκτόξευσης από κράμα αλουμινίου τιτανίου παράγεται με τη μέθοδο της θερμής συμπίεσης κενού.

Οι στόχοι μας για εκτόξευση αλουμινίου τιτανίου θα μπορούσαν να παρέχουν μια εξαιρετική ανθεκτική στην οξείδωση επίστρωση νιτριδίου, το νιτρίδιο αλουμινίου τιτανίου (TiAlN). Το TiAlN είναι η τρέχουσα επικρατούσα τάση ως φιλμ για εργαλεία κοπής, συρόμενα εξαρτήματα και τριβικές επικαλύψεις. Έχει υψηλή σκληρότητα, ανθεκτικότητα, απόδοση ανθεκτική στη φθορά και θερμοκρασία οξείδωσης.