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V-Sputtertarget Hochreine Dünnschicht-PVD-Beschichtung nach Maß

Vanadium

Kurzbeschreibung:

Kategorie

Metall-Sputtertarget

Chemische Formel

V

Zusammensetzung

Vanadium

Reinheit

99,9 %, 99,95 %, 99,99 %

Form

Platten, Säulentargets, Lichtbogenkathoden, maßgeschneidert

Produktionsprozess

Vakuumschmelzen

Verfügbare Größe

L≤2000mm, B≤200mm


Produktdetails

Produkt-Tags

Beschreibung des Vanadium-Sputtertargets

Vanadium ist ein hartes, duktiles Metall mit silbergrauem Aussehen. Es ist härter als die meisten Metalle und weist eine gute Korrosionsbeständigkeit gegenüber Laugen und Säuren auf. Sein Schmelzpunkt liegt bei 1890℃ und der Siedepunkt bei 3380℃. Seine Ordnungszahl beträgt 23 und das Atomgewicht beträgt 50,9414. Es hat eine flächenzentrierte kubische Struktur und Oxidationsstufen in seinen Verbindungen von +5, +4, +3 und +2. Es hat einen hohen Schmelzpunkt, Duktilität, Härte und Korrosionsbeständigkeit.

Vanadium wird in zahlreichen Branchen und Anwendungen umfassend eingesetzt, beispielsweise in Düsentriebwerken, Hochgeschwindigkeitsflugzeugen, Kernreaktoren und beim Legieren von Stahl.

Hochreines Vanadium-Sputtertarget ist ein wichtiges Material für Solarzellen und optische Linsenbeschichtungen.

Chemische Analyse

Reinheit

99,7

99,9

99,95

99,99

Fe

0,1

0,05

0,02

0,01

Al

0,2

0,05

0,03

0,01

Si

0,15

0,1

0,05

0,01

C

0,03

0,02

0,01

0,01

N

0,01

0,01

0,01

0,01

O

0,05

0,05

0,05

0,03

Verunreinigung insgesamt

0,3

0,1

0,05

0,01

Vanadium-Sputtertarget-Verpackung

Unser Vanadium-Sputtertarget ist außen deutlich gekennzeichnet und beschriftet, um eine effiziente Identifizierung und Qualitätskontrolle zu gewährleisten. Es wird große Sorgfalt darauf verwendet, Schäden zu vermeiden, die während der Lagerung oder des Transports entstehen könnten.

Nehmen Sie Kontakt auf

Die Vanadium-Sputtertargets von RSM bieten eine hervorragende Reinheit und Konsistenz. Sie sind in verschiedenen Formen, Reinheiten, Größen und Preisen erhältlich. Wir sind spezialisiert auf hochreine Dünnschichtbeschichtungsmaterialien mit hervorragenden Eigenschaften sowie höchstmöglicher Dichte und kleinstmöglicher durchschnittlicher Korngröße für die Druckbeschichtung, Dekoration, Automobilteile, Low-E-Glas, integrierte Halbleiterschaltkreise, Dünnschichtwiderstände und Grafikdisplays , Luft- und Raumfahrt, magnetische Aufzeichnung, Touchscreens, Dünnschichtsolarzellen und andere PVD-Anwendungen (Physical Vapour Deposition). Bitte senden Sie uns eine Anfrage für aktuelle Preise für Sputtertargets und andere nicht aufgeführte Abscheidungsmaterialien.


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