Wolframsilizidstücke

Wolframsilizid WSi2 wird als Elektroschockmaterial in der Mikroelektronik, zur Überbrückung von Polysiliziumdrähten, zur Antioxidationsbeschichtung und zur Beschichtung von Widerstandsdrähten verwendet. Wolframsilizid wird als Kontaktmaterial in der Mikroelektronik mit einem spezifischen Widerstand von 60–80 μΩcm verwendet. Es entsteht bei 1000°C. Es wird normalerweise als Shunt für Polysiliziumleitungen verwendet, um dessen Leitfähigkeit und Signalgeschwindigkeit zu erhöhen. Die Wolframsilizidschicht kann durch chemische Gasphasenabscheidung, beispielsweise Dampfabscheidung, hergestellt werden. Als Rohmaterialgas werden Monosilan oder Dichlorsilan und Wolframhexafluorid verwendet. Der abgeschiedene Film ist nichtstöchiometrisch und erfordert ein Tempern, um ihn in eine leitfähigere stöchiometrische Form umzuwandeln.

Wolframsilizid kann den früheren Wolframfilm ersetzen. Wolframsilizid wird auch als Barriereschicht zwischen Silizium und anderen Metallen verwendet.

Wolframsilizid ist auch in mikroelektromechanischen Systemen sehr wertvoll, wobei Wolframsilizid hauptsächlich als dünner Film zur Herstellung von Mikroschaltungen verwendet wird. Zu diesem Zweck kann der Wolframsilizidfilm beispielsweise mit Silizid plasmageätzt werden.

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