TiSi-Sputtertarget mit hochreiner Dünnschicht-PVD-Beschichtung nach Maß
Titan-Silizium
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Beschreibung des Titan-Silizium-Sputtertargets
Eine superharte Nitridbeschichtung könnte gebildet werden, wenn Titan-Silizium während des Abscheidungsprozesses mit Stickstoffgas kombiniert wird. Das vorhandene Siliziumelement sorgt für eine hohe Oxidationsbeständigkeit, während Titan für Härte sorgt. Es kann auch bei stark erhöhten Temperaturen eine hervorragende Verschleißfestigkeit aufweisen. Mit einer TiSiN-Beschichtung versehene Schneidwerkzeuge eignen sich ideal zum Hochgeschwindigkeits- und Hartfräsen, insbesondere beim Trockenschneiden, und können mit einigen Superlegierungen wie Legierungen auf Nickel- und Titanbasis umgehen.
Unsere typischen TiSi-Targets und ihre Eigenschaften
| Ti-15Sibei% | Ti-20Sibei% | Ti-25Sibei% | Ti-30Sibei% | |
| Reinheit (%) | 99,9 | 99,9 | 99,9 | 99,9 |
| Dichte(g/cm3） | 4.4 | 4.35 | 4.3 | 4.25 |
| GRegen Größe(µm) | 200/100 | 100 | 100 | 100 |
| Verfahren | VAR/HIP | HÜFTE | HÜFTE | HÜFTE |
Unser Unternehmen verfügt über langjährige Erfahrung in der Herstellung von Sputtertargets für Formschneidwerkzeuge. Ti-15Si at%, hergestellt durch Vakuumschmelzen, weist eine homogene Struktur, hohe Reinheit und einen niedrigen Gasgehalt auf. Darüber hinaus liefern wir auch Ti-15Si at%, Ti-20Si at% und Ti-25Si at%, hergestellt mittels Energiemetallurgie. Unsere TiSi-Targets verfügen über hervorragende mechanische Eigenschaften, wodurch sie unanfällig für Risse und Strukturversagen sind.
Verpackung für Titan-Silizium-Sputtertargets
Unser Titan-Silizium-Sputtertarget ist außen deutlich gekennzeichnet und beschriftet, um eine effiziente Identifizierung und Qualitätskontrolle zu gewährleisten. Es wird große Sorgfalt darauf verwendet, Schäden zu vermeiden, die während der Lagerung oder des Transports entstehen könnten.
Nehmen Sie Kontakt auf
Die Titan-Silizium-Sputtertargets von RSM sind von ultrahoher Reinheit und gleichmäßig. Sie sind in verschiedenen Formen, Reinheiten, Größen und Preisen erhältlich. Wir sind auf die Herstellung hochreiner Dünnschichtbeschichtungsmaterialien mit hervorragender Leistung sowie höchstmöglicher Dichte und kleinstmöglicher durchschnittlicher Korngröße für den Einsatz in der Formbeschichtung, Dekoration, Automobilteilen, Low-E-Glas, integrierten Halbleiterschaltkreisen und Dünnschichten spezialisiert Widerstand, grafische Anzeige, Luft- und Raumfahrt, magnetische Aufzeichnung, Touchscreen, Dünnschicht-Solarbatterie und andere PVD-Anwendungen (Physical Vapour Deposition). Bitte senden Sie uns eine Anfrage für aktuelle Preise für Sputtertargets und andere nicht aufgeführte Abscheidungsmaterialien.
