TiNb-Sputtertarget, hochreine Dünnschicht-PVD-Beschichtung, maßgeschneidert
Titan-Niob
Beschreibung des Tantal-Niob-Sputtertargets
Titan-Niob-Sputtertargets werden durch Vakuumschmelzen oder Energiemetallurgie hergestellt. Der typische Titangehalt beträgt 66 % (ca. 50 Gew.-%). Es handelt sich um ein außerordentlich supraleitendes Material, das durch herkömmliche Verformungs- und Wärmebehandlungsverfahren zu einer Vielzahl praktischer Verbundmaterialien verarbeitet werden kann.
Verpackung für Titan-Niob-Sputtertargets
Unser Titan-Niobium-Sputtertarget ist außen deutlich gekennzeichnet und beschriftet, um eine effiziente Identifizierung und Qualitätskontrolle zu gewährleisten. Es wird große Sorgfalt darauf verwendet, Schäden zu vermeiden, die während der Lagerung oder des Transports entstehen könnten.
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Die Titan-Niob-Sputtertargets von RSM sind von ultrahoher Reinheit und gleichmäßig. Sie sind in verschiedenen Formen, Reinheiten, Größen und Preisen erhältlich.
Wir können eine Vielzahl geometrischer Formen liefern: Röhren, Lichtbogenkathoden, planar oder maßgeschneidert. Unsere Produkte zeichnen sich durch hervorragende mechanische Eigenschaften, eine homogene Mikrostruktur und eine polierte Oberfläche ohne Entmischungen, Poren oder Risse aus.
Wir sind auf die Herstellung hochreiner Dünnschichtbeschichtungsmaterialien mit hervorragender Leistung sowie höchstmöglicher Dichte und kleinstmöglicher durchschnittlicher Korngröße für den Einsatz in der Formbeschichtung, Dekoration, Automobilteilen, Low-E-Glas, integrierten Halbleiterschaltkreisen und Dünnschichten spezialisiert Widerstand, grafische Anzeige, Luft- und Raumfahrt, magnetische Aufzeichnung, Touchscreen, Dünnschicht-Solarbatterie und andere PVD-Anwendungen (Physical Vapour Deposition). Bitte senden Sie uns eine Anfrage für aktuelle Preise für Sputtertargets und andere nicht aufgeführte Abscheidungsmaterialien.
