TiAl-Sputtertarget, hochreine Dünnschicht-PVD-Beschichtung, maßgeschneidert
Titan-Aluminium
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Beschreibung des Titan-Aluminium-Sputtertargets
Die Anforderungen an die Targetqualität für die Sputterbeschichtung sind höher als in der traditionellen Materialindustrie. Die gleichmäßige Mikrostruktur des Targets wirkt sich direkt auf die Sputterleistung aus. Wir verfügen über ein umfassendes Qualitätsmanagementsystem, wählen hochreine Rohstoffe aus und mischen sie sorgfältig, um Homogenität zu gewährleisten. Das Sputtertarget aus einer Titan-Aluminium-Legierung wird im Vakuum-Heißpressverfahren hergestellt.
Unsere Titan-Aluminium-Sputtertargets könnten eine hervorragende oxidationsbeständige Nitridbeschichtung, Titanaluminiumnitrid (TiAlN), liefern. TiAlN ist derzeit der gängige Film für Schneidwerkzeuge, Gleitteile und Tribobeschichtungen. Es weist eine hohe Härte, Zähigkeit, Verschleißfestigkeit und Oxidationstemperatur auf.
Unsere typischen TiAl-Targets und ihre Eigenschaften
Ti-75Al at% | Ti-70Al at% | Ti-67Al at% | Ti-60Al at% | Ti-50Al at% | Ti-30Al at% | Ti-20Al at% | Ti-14Al at% | |
Reinheit (%) | 99,7 | 99,7 | 99,7 | 99,7 | 99,8/99,9 | 99,9 | 99,9 | 99,9 |
Dichte(g/cm3) | 3.1 | 3.2 | 3.3 | 3.4 | 3,63/3,85 | 3,97 | 4.25 | 4.3 |
GRegen Größe(µm) | 100 | 100 | 100 | 100 | 100/- | - | - | - |
Verfahren | HÜFTE | HÜFTE | HÜFTE | HÜFTE | HÜFTE/VAR | VAR | VAR | VAR |
Titan-Aluminium-Sputtertarget-Verpackung
Unser Titan-Aluminium-Sputtertarget ist außen deutlich gekennzeichnet und beschriftet, um eine effiziente Identifizierung und Qualitätskontrolle zu gewährleisten. Es wird große Sorgfalt darauf verwendet, Schäden zu vermeiden, die während der Lagerung oder des Transports entstehen könnten.
Nehmen Sie Kontakt auf
Die Titan-Aluminium-Sputtertargets von RSM sind von ultrahoher Reinheit und gleichmäßig. Sie sind in verschiedenen Formen, Reinheiten, Größen und Preisen erhältlich.
Wir können eine Vielzahl geometrischer Formen liefern: Röhren, Lichtbogenkathoden, planar oder maßgefertigt, und eine große Auswahl an Aluminiumanteilen. Unsere Produkte zeichnen sich durch hervorragende mechanische Eigenschaften, eine homogene Mikrostruktur und eine polierte Oberfläche ohne Entmischungen, Poren oder Risse aus.
Wir sind auf die Herstellung hochreiner Dünnschichtbeschichtungsmaterialien mit hervorragender Leistung sowie höchstmöglicher Dichte und kleinstmöglicher durchschnittlicher Korngröße für den Einsatz in der Formbeschichtung, Dekoration, Automobilteilen, Low-E-Glas, integrierten Halbleiterschaltkreisen und Dünnschichten spezialisiert Widerstand, grafische Anzeige, Luft- und Raumfahrt, magnetische Aufzeichnung, Touchscreen, Dünnschicht-Solarbatterie und andere PVD-Anwendungen (Physical Vapour Deposition). Bitte senden Sie uns eine Anfrage für aktuelle Preise für Sputtertargets und andere nicht aufgeführte Abscheidungsmaterialien.