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Ti-Sputtertarget mit hochreiner Dünnschicht-PVD-Beschichtung nach Maß

Titan

Kurzbeschreibung:

Kategorie

Metall-Sputtertarget

Chemische Formel

Ti

Zusammensetzung

Titan

Reinheit

99,9 %, 99,95 %, 99,99 %

Form

Platten, Säulentargets, Lichtbogenkathoden, maßgeschneidert

Produktionsprozess

Vakuumschmelzen

Verfügbare Größe

L≤2000mm, B≤200mm


Produktdetails

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Beschreibung des Titan-Sputtertargets

Titan ist ein chemisches Element mit dem Symbol Ti und der Ordnungszahl 22. Es ist ein glänzendes Übergangsmetall mit silberner Farbe. Sein Schmelzpunkt beträgt (1660 ± 10)℃, der Siedepunkt beträgt 3287℃. Es zeichnet sich durch geringes Gewicht, hohe Härte und Korrosionsbeständigkeit gegenüber allen Arten von Chlorchemikalien aus.

Titan widersteht der Korrosion durch Meerwasser und kann sich sowohl in sauren als auch in alkalischen Medien lösen.

Titanlegierungen werden aufgrund ihrer herausragenden Eigenschaften wie geringe Dichte, Wärmeleitfähigkeit und ausgezeichnete Korrosionsbeständigkeit, Schweißbarkeit und Biokompatibilität häufig in der Luft- und Raumfahrt, der Chemietechnik, der Erdölindustrie, der Medizin, dem Bauwesen und anderen Bereichen eingesetzt.

Titan kann Wasserstoff-, CH4- und CO2-Gase absorbieren und wird häufig in Hochvakuum- und Ultrahochvakuumsystemen verwendet. Titan-Sputtertargets könnten für die Herstellung von LSI-, VLSI- und ULSI-Schaltkreisnetzwerken oder Barrieremetallmaterialien verwendet werden.

Verpackung für Titan-Sputtertargets

Unser Titan-Sputtertarget ist außen deutlich gekennzeichnet und beschriftet, um eine effiziente Identifizierung und Qualitätskontrolle zu gewährleisten. Es wird große Sorgfalt darauf verwendet, Schäden zu vermeiden, die während der Lagerung oder des Transports entstehen könnten.

Nehmen Sie Kontakt auf

Die Titan-Sputtertargets von RSM sind von ultrahoher Reinheit und gleichmäßig. Sie sind in verschiedenen Formen, Reinheiten, Größen und Preisen erhältlich. Wir sind auf die Herstellung hochreiner Dünnschichtbeschichtungsmaterialien mit hervorragender Leistung sowie höchstmöglicher Dichte und kleinstmöglicher durchschnittlicher Korngröße für den Einsatz in der Formbeschichtung, Dekoration, Automobilteilen, Low-E-Glas, integrierten Halbleiterschaltkreisen und Dünnschichten spezialisiert Widerstand, grafische Anzeige, Luft- und Raumfahrt, magnetische Aufzeichnung, Touchscreen, Dünnschicht-Solarbatterie und andere PVD-Anwendungen (Physical Vapour Deposition). Bitte senden Sie uns eine Anfrage für aktuelle Preise für Sputtertargets und andere nicht aufgeführte Abscheidungsmaterialien.

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