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TaNb-Sputtertarget, hochreine Dünnschicht-PVD-Beschichtung, maßgeschneidert

Tantal Niob

Kurzbeschreibung:

Kategorie

Sputtertarget aus Legierung

Chemische Formel

TaNb

Zusammensetzung

Tantal Niob

Reinheit

99,9 %, 99,95 %, 99,99 %

Form

Platten, Säulentargets, Lichtbogenkathoden, maßgeschneidert

Produktionsprozess

Vakuumschmelzen

Verfügbare Größe

L≤2000mm, B≤200mm


Produktdetails

Produkt-Tags

Beschreibung des Tantal-Niob-Sputtertargets

Tantal-Niob-Sputtertargets werden durch Vakuumschmelzen von Tantal und Niob hergestellt. Bei diesen beiden handelt es sich um seltene Metalle mit hohem Schmelzpunkt (Tantal 2996℃, Niobium 2468℃) und hohem Siedepunkt (Tantal 5427℃, Niobium 5127℃). Tantal-Niob-Legierung hat ein ähnliches Aussehen wie Stahl, sie hat einen silbergrauen Glanz (während das Pulver dunkelgrau ist). Es hat viele vorteilhafte Eigenschaften: Korrosionsbeständigkeit, Supraleitung und Hochtemperaturfestigkeit. Daher könnten alle Anwendungen und Branchen von der Verwendung von Tantal-Niob-Legierungen profitieren, beispielsweise in der Elektronik, Glas und Optik, Luft- und Raumfahrt, medizinischen Geräten, Supraleitung und Stahl.

Tantal und Niob sind aufgrund ihrer beeindruckenden Festigkeit, Korrosionsbeständigkeit und anderen attraktiven Eigenschaften seit Jahren in der Raumfahrtindustrie von entscheidender Bedeutung und werden in vielen wichtigen Komponenten wie Raketentriebwerken und Düsen verwendet.

Verpackung für Tantal-Niob-Sputtertargets

Unser TaNb-Sputtertarget ist außen deutlich gekennzeichnet und beschriftet, um eine effiziente Identifizierung und Qualitätskontrolle zu gewährleisten. Es wird große Sorgfalt darauf verwendet, Schäden zu vermeiden, die während der Lagerung oder des Transports entstehen könnten.

Nehmen Sie Kontakt auf

Die Tantal-Niob-Sputtertargets von RSM sind von ultrahoher Reinheit und gleichmäßig. Sie sind in verschiedenen Formen, Reinheiten, Größen und Preisen erhältlich. Wir sind auf die Herstellung hochreiner Dünnschichtbeschichtungsmaterialien mit hervorragender Leistung sowie höchstmöglicher Dichte und kleinstmöglicher durchschnittlicher Korngröße für den Einsatz in der Formbeschichtung, Dekoration, Automobilteilen, Low-E-Glas, integrierten Halbleiterschaltkreisen und Dünnschichten spezialisiert Widerstand, grafische Anzeige, Luft- und Raumfahrt, magnetische Aufzeichnung, Touchscreen, Dünnschicht-Solarbatterie und andere PVD-Anwendungen (Physical Vapour Deposition). Bitte senden Sie uns eine Anfrage für aktuelle Preise für Sputtertargets und andere nicht aufgeführte Abscheidungsmaterialien.


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