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NiCrAlY Sputtertarget Hochreine Dünnschicht-PVD-Beschichtung nach Maß

Nickel-Chrom-Aluminium-Yttrium

Kurzbeschreibung:

Kategorie

Sputtertarget aus Legierung

Chemische Formel

NiCrAlY

Zusammensetzung

Nickel-Chrom-Aluminium-Yttrium

Reinheit

99,5 %, 99,7 %, 99,9 %, 99,95 %

Form

Platten, Säulentargets, Lichtbogenkathoden, maßgeschneidert

Produktionsprozess

Vakuumschmelzen

Verfügbare Größe

L≤200mm, B≤200mm


Produktdetails

Produkt-Tags

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Beschreibung des Nickel-Chrom-Aluminium-Yttrium-Sputtertargets

Das NiCrAlY-Sputtertarget wird durch Vakuumschmelzen der Rohstoffe Nickel-Chrom-Aluminium-Yttrium hergestellt. Es hat eine hohe Konsistenz, eine feine Körnung und keine Poren. Seine Zusammensetzung aus Chrom reicht von 10–30 % (Gew.), Aluminium 10–20 % (Gew.), Yttrium 0,5–1,0 % (Gew.) und ergibt die zweischichtige Struktur von γ+β.
NiCrAlY-Schichten werden häufig als Wärmedämmschichten verwendet. Unter Hochtemperaturkorrosion versteht man einen chemischen Angriff von chrombildenden Legierungen auf Eisen-, Nickel- und Kobaltbasis durch Gase, feste oder geschmolzene Salze oder geschmolzene Metalle, typischerweise bei Temperaturen über 400 °C (750 °F). Der Einsatz einer NiCrAlY-Schicht in der Hochtemperatur-Stufenlegierung von Flugzeugen und Gasturbinen könnte die Korrosionsbeständigkeit verbessern und die Produktlebensdauer verlängern.

Nickel-Chrom-Aluminium-Yttrium-Sputtertarget-Verpackung

Unser Nickel-Chrom-Aluminium-YttriumSputtertargetist von außen deutlich gekennzeichnet und beschriftet, um eine effiziente Identifizierung und Qualitätskontrolle zu gewährleisten. Es wird große Sorgfalt darauf verwendet, Schäden zu vermeiden, die während der Lagerung oder des Transports entstehen könnten.

 

Nehmen Sie Kontakt auf

Die Nickel-Chrom-Aluminium-Yttrium-Sputtertargets von RSM sind von extrem hoher Reinheit und gleichmäßig. Sie sind in verschiedenen Formen, Reinheiten, Größen und Preisen erhältlich. Wir sind auf die Herstellung hochreiner Dünnschichtbeschichtungsmaterialien mit hervorragender Leistung sowie höchstmöglicher Dichte und kleinstmöglicher durchschnittlicher Korngröße für den Einsatz in der Formbeschichtung, Dekoration, Automobilteilen, Low-E-Glas, integrierten Halbleiterschaltkreisen und Dünnschichten spezialisiert Widerstand, grafische Anzeige, Luft- und Raumfahrt, magnetische Aufzeichnung, Touchscreen, Dünnschicht-Solarbatterie und andere PVD-Anwendungen (Physical Vapour Deposition). Bitte senden Sie uns eine Anfrage für aktuelle Preise für Sputtertargets und andere nicht aufgeführte Abscheidungsmaterialien.

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