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NiCrAlSi-Sputtertarget, hochreine Dünnschicht-PVD-Beschichtung, maßgeschneidert

Nickel-Chrom-Aluminium-Silizium

Kurzbeschreibung:

Kategorie

Sputtertarget aus Legierung

Chemische Formel

NiCrAlSi

Zusammensetzung

Nickel-Chrom-Aluminium-Silizium

Reinheit

99,5 %, 99,9 %, 99,95 %

Form

Platten, Säulentargets, Lichtbogenkathoden, maßgeschneidert

Produktionsprozess

Vakuumschmelzen

Verfügbare Größe

L≤1500mm, B≤200mm


Produktdetails

Produkt-Tags

NiCrAlSi-Sputtertargets werden durch Vakuumschmelzen, Gießen und Heißbehandlung hergestellt, um eine hohe Konsistenz, feine Korngröße und gute Leistung sicherzustellen.

Aufgrund ihres hervorragenden hohen spezifischen Widerstands, ihres guten Korrosionsschutzverhaltens, ihrer hohen Temperaturbeständigkeit und Lötbarkeit wird die Nickel-Chrom-Aluminium-Silizium-Legierung in vielen industriellen Anwendungen, einschließlich Metallurgie, mechanischer Fertigung und Haushaltsgeräten, häufig verwendet.

Rich Special Materials ist auf die Herstellung von Sputtertargets spezialisiert und kann Nickel-Chrom-Aluminium-Silizium-Sputtermaterialien gemäß den Spezifikationen der Kunden herstellen. Für weitere Informationen kontaktieren Sie uns bitte.


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