NiCrAlSi-Sputtertarget, hochreine Dünnschicht-PVD-Beschichtung, maßgeschneidert
Nickel-Chrom-Aluminium-Silizium
NiCrAlSi-Sputtertargets werden durch Vakuumschmelzen, Gießen und Heißbehandlung hergestellt, um eine hohe Konsistenz, feine Korngröße und gute Leistung sicherzustellen.
Aufgrund ihres hervorragenden hohen spezifischen Widerstands, ihres guten Korrosionsschutzverhaltens, ihrer hohen Temperaturbeständigkeit und Lötbarkeit wird die Nickel-Chrom-Aluminium-Silizium-Legierung in vielen industriellen Anwendungen, einschließlich Metallurgie, mechanischer Fertigung und Haushaltsgeräten, häufig verwendet.
Rich Special Materials ist auf die Herstellung von Sputtertargets spezialisiert und kann Nickel-Chrom-Aluminium-Silizium-Sputtermaterialien gemäß den Spezifikationen der Kunden herstellen. Für weitere Informationen kontaktieren Sie uns bitte.