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Ni-Suttertarget Nickl 4N hochrein

Ni-Sputtertarget

Kurzbeschreibung:

Kategorie

Ni-Sputtertarget

Chemische Formel

Ni

Zusammensetzung

Nickl

Reinheit

99,9 %, 99,95 %, 99,99 %

Form

Platten, Säulentargets, Lichtbogenkathoden, maßgeschneidert

Produktionsprozess

Vakuumschmelzen, PM

Verfügbare Größe

L≤2000mm, B≤200mm


Produktdetails

Produkt-Tags

Nickel ist ein silberweiß glänzendes Metall mit einem leichten Goldstich. Es wird häufig bei der Herstellung von Nickelschwamm und dekorativen Beschichtungen verwendet. Nickel kann beim Verdampfen im Vakuum eine dekorative Beschichtung auf Keramikoberflächen oder eine Lotschicht bei der Herstellung von Schaltkreisgeräten bilden. Es wird häufig gesputtert, um Schichten in magnetischen Speichermedien, Brennstoffzellen und Sensoren zu erzeugen. AEM bietet Nickel-Sputtertargets mit hoher Reinheit und feiner Körnung. Unter den gleichen Bedingungen ist der Beschichtungsfilm gleichmäßiger als bei ähnlichen Produkten und die Beschichtungsfläche wird um 10 bis 20 % vergrößert.


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