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Nachricht

  • Vorbereitungstechnologie und Anwendung von hochreinem Wolframtarget

    Vorbereitungstechnologie und Anwendung von hochreinem Wolframtarget

    Aufgrund der hohen Temperaturstabilität, des hohen Elektronenmigrationswiderstands und des hohen Elektronenemissionskoeffizienten von feuerfestem Wolfram und Wolframlegierungen werden Targets aus hochreinem Wolfram und Wolframlegierungen hauptsächlich zur Herstellung von Gate-Elektroden, Verbindungsleitungen, Diffusionsbarrieren usw. verwendet.
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  • Sputtertarget aus Legierung mit hoher Entropie

    Sputtertarget aus Legierung mit hoher Entropie

    High Entropy Alloy (HEA) ist eine neue Art von Metalllegierung, die in den letzten Jahren entwickelt wurde. Seine Zusammensetzung besteht aus fünf oder mehr Metallelementen. HEA ist eine Untergruppe von Multiprimärmetalllegierungen (MPEA), bei denen es sich um Metalllegierungen handelt, die zwei oder mehr Hauptelemente enthalten. Wie MPEA ist HEA berühmt für seine hervorragende...
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  • Sputtertarget – Nickel-Chrom-Target

    Sputtertarget – Nickel-Chrom-Target

    Target ist das wichtigste Grundmaterial für die Herstellung dünner Filme. Derzeit umfassen die am häufigsten verwendeten Targetvorbereitungs- und -verarbeitungsmethoden hauptsächlich die Pulvermetallurgietechnologie und die traditionelle Legierungsschmelztechnologie, während wir die technischere und relativ neue Vakuumschmelztechnologie übernehmen ...
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  • Ni-Cr-Al-Y-Sputtertarget

    Ni-Cr-Al-Y-Sputtertarget

    Als neuartiges Legierungsmaterial wird die Nickel-Chrom-Aluminium-Yttrium-Legierung häufig als Beschichtungsmaterial auf der Oberfläche von Hot-End-Teilen wie Luft- und Raumfahrt, Gasturbinenschaufeln von Automobilen und Schiffen, Hochdruckturbinengehäusen usw. verwendet. etc. aufgrund seiner guten Hitzebeständigkeit, c...
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  • Einführung und Anwendung von Kohlenstoff (pyrolytischem Graphit) als Ziel

    Einführung und Anwendung von Kohlenstoff (pyrolytischem Graphit) als Ziel

    Graphittargets werden in isostatischen Graphit und pyrolytischen Graphit unterteilt. Der Herausgeber von RSM wird pyrolytischen Graphit ausführlich vorstellen. Pyrolytischer Graphit ist ein neuartiges Kohlenstoffmaterial. Es handelt sich um pyrolytischen Kohlenstoff mit hoher Kristallorientierung, der durch chemische Dampfabscheidung auf ... abgeschieden wird.
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  • Sputtertargets aus Wolframcarbid

    Sputtertargets aus Wolframcarbid

    Wolframkarbid (chemische Formel: WC) ist eine chemische Verbindung (genauer gesagt ein Karbid), die zu gleichen Teilen aus Wolfram- und Kohlenstoffatomen besteht. In seiner grundlegendsten Form ist Wolframkarbid ein feines graues Pulver, es kann jedoch gepresst und in Formen für den Einsatz in Industriemaschinen, Schneidwerkzeugen usw. geformt werden.
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  • Einführung und Anwendung von Eisen-Sputtertargets

    Einführung und Anwendung von Eisen-Sputtertargets

    Kürzlich wollte ein Kunde das Produkt weinrot lackieren. Er fragte einen Techniker von RSM nach Sputtertargets aus reinem Eisen. Lassen Sie uns nun etwas Wissen über Eisen-Sputtertargets mit Ihnen teilen. Das Eisen-Sputtertarget ist ein festes Metalltarget, das aus hochreinem Eisenmetall besteht. Eisen...
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  • Anwendung des AZO-Sputtertargets

    Anwendung des AZO-Sputtertargets

    AZO-Sputtertargets werden auch als Aluminium-dotierte Zinkoxid-Sputtertargets bezeichnet. Aluminiumdotiertes Zinkoxid ist ein transparentes leitendes Oxid. Dieses Oxid ist wasserunlöslich, aber thermisch stabil. AZO-Sputtertargets werden typischerweise für die Dünnschichtabscheidung verwendet. Welche Art von ...
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  • Herstellungsverfahren für eine Legierung mit hoher Entropie

    Herstellungsverfahren für eine Legierung mit hoher Entropie

    In letzter Zeit haben sich viele Kunden nach Legierungen mit hoher Entropie erkundigt. Was ist die Herstellungsmethode für eine Legierung mit hoher Entropie? Lassen Sie es uns nun vom Herausgeber von RSM mit Ihnen teilen. Die Herstellungsmethoden für Legierungen mit hoher Entropie können im Wesentlichen in drei Arten unterteilt werden: flüssiges Mischen, festes Mischen ...
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  • Anwendung von Halbleiterchip-Sputtertargets

    Anwendung von Halbleiterchip-Sputtertargets

    Rich Special Material Co., Ltd. kann hochreine Aluminium-Sputtertargets, Kupfer-Sputtertargets, Tantal-Sputtertargets, Titan-Sputtertargets usw. für die Halbleiterindustrie herstellen. Halbleiterchips stellen hohe technische Anforderungen und hohe Preise für das Sputtern ...
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  • Aluminium-Scandium-Legierung

    Aluminium-Scandium-Legierung

    Zur Unterstützung der Industrie für filmbasierte piezoelektrische MEMS-Sensoren (pMEMS) und Hochfrequenzfilterkomponenten wird die von Rich Special Material Co., Ltd. hergestellte Aluminium-Scandium-Legierung speziell für die reaktive Abscheidung von Scandium-dotierten Aluminiumnitridfilmen verwendet . Das...
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  • Anwendung von ITO-Sputtertargets

    Anwendung von ITO-Sputtertargets

    Wie wir alle wissen, hängt der technologische Entwicklungstrend bei Sputtertargetmaterialien eng mit dem Entwicklungstrend der Dünnschichttechnologie in der Anwendungsindustrie zusammen. Da sich die Technologie von Filmprodukten oder -komponenten in der Anwendungsindustrie verbessert, sollte die Zieltechnologie ...
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