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Hochreine Zirkonium-Sputtertargets

Rich Spezialmaterialien Co., Ltd. liefern hochreine Zirkonium-Sputtertargets mit der höchstmöglichen Dichte und kleinstmöglichen durchschnittlichen Korngrößen für den Einsatz in Halbleiter-, chemischen Gasphasenabscheidungs- (CVD) und physikalischen Gasphasenabscheidungs- (PVD) Display- und optischen Anwendungen. Unsere Standard-Sputtertargets für Dünnfilme sind als Monoblock oder gebondet mit planaren Targetabmessungen und -konfigurationen bis zu 820 mm mit Lochbohrungspositionen und Gewinden, Abschrägungen, Rillen und Trägern erhältlich, die sowohl für den Einsatz mit älteren Sputtergeräten als auch mit den neuesten Prozessgeräten ausgelegt sind. wie großflächige Beschichtungen für Solarenergie oder Brennstoffzellen und Flip-Chip-Anwendungen. Es werden auch Ziele in Forschungsgröße sowie kundenspezifische Größen und Legierungen hergestellt. Alle Ziele werden mit den bewährtesten Techniken analysiert, einschließlich Röntgenfluoreszenz (RFA).



Zeitpunkt der Veröffentlichung: 03.05.2023