Hochreines Yttrium-Target – ein wichtiges Mitglied der PVD-Beschichtung

Was ist ein Yttrium-Sputtertarget?
Yttrium-Targets werden hauptsächlich durch das Metallelement Yttrium-Sputtertarget hergestellt, da das Yttrium-Element (Y) zu den Seltenerdmetallelementen gehört, weshalb Yttrium-Targets auch als Seltenerd-Targets bezeichnet werden.
Yttrium-Targets werden hauptsächlich in der Sputter-Depositionstechnologie eingesetzt. Die Sputtering-Depositionstechnologie gehört zu den PVD-Technologien (Physical Vapour Deposition) und ist eine der Haupttechnologien für die Herstellung elektronischer Dünnschichtmaterialien. Durch Beschuss der Oberfläche des Targets mit hochenergetischen Partikeln (z. B. Ionen oder Elektronenstrahlen) werden die Targetatome oder -moleküle herausgesputtert und auf einem anderen Substrat abgelagert, um den gewünschten Film oder die gewünschte Beschichtung zu bilden.
Das Yttrium-Target ist einfach das Ausgangsmaterial des gewünschten Films oder der gewünschten Beschichtung, die durch die PVD-Technologie hergestellt wird.

Was istDieWofür wird das Yttrium-Sputtertarget verwendet?

Yttrium-Targets haben ein breites Anwendungsspektrum in verschiedenen Bereichen, die folgenden sind die Hauptanwendungsbereiche:

1. Halbleitermaterialien: In der Halbleiterindustrie werden Yttrium-Targets verwendet, um bestimmte Schichten in Halbleitermaterialien oder elektronischen Bauteilen wie Transistoren, integrierten Schaltkreisen usw. herzustellen.
2. Optische Beschichtung: Im Bereich der Optik können mit Yttrium-Targets optische Beschichtungen mit hohem Brechungsindex und geringer Streurate hergestellt werden, die bei der Herstellung optischer Geräte wie Laser und optische Filter eine wichtige Rolle spielen.
3. Dünnschichtabscheidung: Das Yttrium-Target nimmt eine wichtige Position in der Dünnschichtabscheidungstechnologie ein und ist aufgrund seiner hohen Reinheit, guten Stabilität und spezifischen physikalischen und chemischen Eigenschaften eine ideale Wahl für die Herstellung einer Vielzahl von Dünnschichtmaterialien. Diese Dünnschichtmaterialien haben ein breites Anwendungsspektrum in optischen, elektronischen, magnetischen und anderen Bereichen.
4. Medizinischer Bereich: Yttrium-Targets haben wichtige Anwendungen in der Strahlenmedizin, beispielsweise als Quelle für Röntgen- und Gammastrahlen, diagnostische Bildgebung (z. B. CT-Scans) und Strahlentherapie. Darüber hinaus können bestimmte Isotope von Yttrium (z. B. Y-90) auch in Radiopharmaka zur gezielten Behandlung bestimmter Krebsarten eingesetzt werden.
5. Kernenergieindustrie: In Kernreaktoren werden Yttrium-Targets aufgrund ihrer hervorragenden Neutronenabsorptionskapazität als Hebelmaterialien zur Steuerung der Geschwindigkeit und Stabilität von Kernreaktionen eingesetzt.

Hinweis: Da die Leistungsanforderungen von Yttrium-Targets in verschiedenen Anwendungsbereichen unterschiedlich sein können, muss das geeignete Target entsprechend der tatsächlichen Situation in der jeweiligen Anwendung ausgewählt werden. (Zum Beispiel spezifische Reinheit, Zusammensetzungsverhältnis, Größe, Form usw., angepasst an spezifische Anforderungen.)

Produktionstechnologie von Yttrium-Sputtertargets?

1. Yttriumpulver vorbereiten 2. HIP, Pressformen 3. Hochtemperatursintern 4. Nachfolgende Verarbeitung (Schneiden, Polieren usw.) 5. Reinigen und Verpacken

Hinweis: Neben den oben genannten grundlegenden Schritten können Yttrium-Sputtertargets je nach spezifischer Vorbereitungsmethode und Anwendungsanforderungen auch andere Schritte und Technologien umfassen, wie z. B. das Sputterverfahren, das Vakuumschmelzverfahren usw. Diese Methoden helfen bei der weiteren Anpassung und Optimierung Leistung und Struktur des Zielmaterials.

Wie wählt man ein hochwertiges Sputtertarget aus?

Im Folgenden sind die 7 wichtigen Faktoren für die Auswahl hochwertiger Sputtertargets aufgeführt:

1.Hallogh Reinheit

Hochreine Targets weisen bessere Materialeigenschaften sowie stabilere physikalische und chemische Eigenschaften auf, was für die Sicherstellung der Qualität und Leistung von Sputterbeschichtungen unerlässlich ist. Spezifische Reinheitsanforderungen sollten entsprechend dem Anwendungsszenario festgelegt werden. Einige einfache Anwendungsszenarien müssen nicht auf ultrahohe Reinheit ausgerichtet sein, um unnötige Kosten nicht zu erhöhen. Was zu Ihnen passt, ist das Beste.

2.Stabilität

Ebenso wichtig ist die Stabilität des Targets, um Materialverluste oder Leistungsschwankungen beim Sputtern zu vermeiden. Daher sollte man bei der Auswahl auf eine spezielle Behandlung oder eine gute Stabilität des Produkts achten.

3.Größe und Form

Größe und Form des Sputtertargets sollten entsprechend den spezifischen Anforderungen der Beschichtungsanlage ausgewählt werden, um sich an unterschiedliche Sputterprozesse und Produktionsanforderungen anzupassen. Die Sicherstellung, dass das Target auf die Ausrüstung abgestimmt ist, erhöht die Sputtereffizienz und reduziert den Abfall.

4.Dichte

Die Dichte ist einer der wichtigen Indikatoren zur Messung der Qualität des Zielmaterials. Zielmaterial mit hoher Dichte kann einen besseren Sputtereffekt gewährleisten. Bei der Auswahl sollten Sie auf die Dichtedaten des Ziels achten und versuchen, Produkte mit höherer Dichte auszuwählen.

5.Verarbeitungsgenauigkeit

Auch die Verarbeitungsgenauigkeit des Ziels ist einer der Faktoren, die berücksichtigt werden müssen. Im Allgemeinen muss die Verarbeitungsgenauigkeit des Targets innerhalb von ±0,1 mm liegen, um die Stabilität des Sputterprozesses und die Gleichmäßigkeit der Beschichtungsqualität sicherzustellen.

6. Besondere Anforderungen

Für einige spezielle Anwendungsszenarien, wie z. B. die Notwendigkeit einer hohen Lichtdurchlässigkeit, einer geringen Absorption des Ziels (optische Beschichtung) oder einer hohen Leitfähigkeit und hohen Stabilität des Ziels (elektronisches Feld), sollte entsprechend den spezifischen Anforderungen des entsprechenden Ziels ausgewählt werden Typ.

7.Wählen Sie einen professionellen Hersteller oder Lieferanten.