Keramische Targets finden umfangreiche Anwendungen in Bereichen wie Halbleitern, Displays, Photovoltaik und magnetischer Aufzeichnung. Oxidkeramiktargets, Silizidkeramiktargets, Nitridkeramiktargets, Verbundkeramiktargets und Sulfidkeramiktargets sind gängige Arten von Keramiktargets. Unter diesen weisen Oxidkeramik-Targets Eigenschaften wie einen hohen Schmelzpunkt, eine hervorragende Isolierung und Hitzebeständigkeit auf, wodurch sie für fortschrittliche Keramik-Sputtertargets und halbleiterbezogene Keramiktargets geeignet sind. Silizid-Keramik-Targets zeichnen sich durch hohe Härte und gute chemische Stabilität aus und eignen sich daher für Display-Keramik-Targets und halbleiterbezogene Keramik-Targets. Nitrid-Keramik-Targets zeichnen sich durch hohe Härte und gute thermische Stabilität aus und eignen sich daher für Display-Keramik-Targets und halbleiterbezogene Keramik-Targets. Sulfid-Keramik-Targets weisen eine hohe Härte und eine gute chemische Stabilität auf, wodurch sie für Display-Keramik-Targets und halbleiterbezogene Keramik-Targets geeignet sind.
Daher haben Keramiktargets breite Anwendungsaussichten in Bereichen wie Halbleiter, Displays, Photovoltaik und magnetische Aufzeichnung.
Zeitpunkt der Veröffentlichung: 07.12.2023