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CuP-Sputtertarget, hochreine Dünnschicht-PVD-Beschichtung, maßgeschneidert

Kupfer-Phosphor

Kurzbeschreibung:

Kategorie

Sputtertarget aus Legierung

Chemische Formel

Tasse

Zusammensetzung

Kupfer-Phosphor

Reinheit

99,9 %, 99,95 %, 99,99 %

Form

Platten, Säulentargets, Lichtbogenkathoden, maßgeschneidert

Produktionsprozess

Vakuumschmelzen, PM

Verfügbare Größe

L≤200mm, B≤200mm


Produktdetails

Produkt-Tags

Kupfer-Phosphor-Legierungen werden im Allgemeinen zum Desoxidieren von Kupfer und Kupferlegierungen verwendet. Obwohl viele andere Desoxidationsmittel verfügbar sind, hat sich Phosphor als das wirtschaftlichste Mittel erwiesen.
Kupfer-Phosphor-Legierungen dienen auch als Legierungsmittel, um Kupferlegierungen, einschließlich Phosphorbronze und vielen verschiedenen Hartlotlegierungen, eine bestimmte Menge Phosphor hinzuzufügen. Die Zugabe von Phosphor erhöht die Fließfähigkeit des Metalls.

CuP8-Vorlegierung wird in der Aluminiumindustrie zur Behandlung übereutektischer Aluminium-Silizium-Gießlegierungen verwendet, um die Morphologie und Größe der erstarrenden primären Siliziumphase zu steuern und so die Bearbeitbarkeit, Verschleißfestigkeit und Zähigkeit der Legierung zu erhöhen. Wenn Kupfer-Phosphor-Legierungen für Desoxidationsanwendungen eingesetzt werden, ist die Erzielung eines Restphosphorgehalts von 0,010 % bis 0,015 % eine gängige Praxis zur Verhinderung einer Reoxidation, insbesondere während des Gießprozesses.

Kupfer-Phosphor-Legierungen dienen als effizientes Desoxidationsmittel für Kupfer-Blei-Zinn-, Kupfer-Zinn-Zink- und Kupfer-Zinn-Gusslegierungen. Sie können jedoch nicht zur Desoxidation von Kupfer mit hoher Leitfähigkeit verwendet werden, da Phosphor die elektrische Leitfähigkeit beeinträchtigt.

Rich Special Materials ist auf die Herstellung von Sputtertargets spezialisiert und kann Kupfer-Phosphor-Sputtermaterialien gemäß den Spezifikationen der Kunden herstellen. Für weitere Informationen kontaktieren Sie uns bitte.


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