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CuCr-Sputtertarget, hochreine Dünnschicht-PVD-Beschichtung, maßgeschneidert

Kupfer Chrom

Kurzbeschreibung:

Kategorie

Sputtertarget aus Legierung

Chemische Formel

CuCr

Zusammensetzung

Kupfer Chrom

Reinheit

99,9 %, 99,95 %, 99,99 %

Form

Platten, Säulentargets, Lichtbogenkathoden, maßgeschneidert

Produktionsprozess

Vakuumschmelzen, PM

Verfügbare Größe

L≤200mm, B≤200mm


Produktdetails

Produkt-Tags

Das Sputtertarget aus einer Kupfer-Chrom-Legierung ist ein Material auf Cu-Basis mit zugesetztem Chromelement. Es verfügt über eine hohe mechanische Festigkeit und Härte sowie eine ausgezeichnete elektrische und Wärmeleitfähigkeit. Die Cu-Cr-Legierung hat aufgrund ihrer spezifischen Eigenschaften eine Vielzahl von Anwendungen gefunden, bei denen Geräte unter hohen Temperaturen betrieben werden: Eignung für hohe Temperaturen, Oxidationsbeständigkeit, Korrosionsbeständigkeit und Bearbeitbarkeit.

Kupfer-Chrom-Material weist eine hohe Härte, Verschleißfestigkeit, Biegefestigkeit, Rissbeständigkeit und eine hohe Übergangstemperatur auf. ist eine Art erneuerbare Energie. Das vorhandene dreiwertige Chrom stellt keine Gefahr für die menschliche Gesundheit dar. Es ist auch ein übliches leitendes Material. Kupfer-Chrom wird in großem Umfang in Produkten der optoelektronischen Technologie wie Touchpanels, LCDs und Solarzellen verwendet.

Rich Special Materials ist ein Hersteller von Sputtertargets und kann Kupfer-Chrom-Sputtermaterialien gemäß den Spezifikationen der Kunden herstellen. Für weitere Informationen kontaktieren Sie uns bitte.


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