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CuAl-Sputtertarget, hochreine Dünnschicht-PVD-Beschichtung, maßgeschneidert

Kupfer-Aluminium

Kurzbeschreibung:

Kategorie

Sputtertarget aus Legierung

Chemische Formel

CuAl

Zusammensetzung

Kupfer-Aluminium

Reinheit

99,9 %, 99,95 %, 99,99 %

Form

Platten, Säulentargets, Lichtbogenkathoden, maßgeschneidert

Produktionsprozess

Vakuumschmelzen

Verfügbare Größe

L≤200mm, B≤200mm


Produktdetails

Produkt-Tags

Kupfer-Aluminium-Sputtertargets eignen sich aufgrund ihrer hohen Härte, Zugfestigkeit und ihres geringen Gewichts perfekt für eine Reihe von Branchen und Anwendungen. Es hat normalerweise einen Kupfergehalt von 1–3 % und weist ähnliche chemische Eigenschaften wie Aluminium auf. CuAl verfügt über hohe mechanische Eigenschaften, hervorragende Bearbeitbarkeit und Hochtemperatureignung und könnte daher das geeignete Material für Hochleistungsaluminiumlegierungen sein. Hochreine CuAl-Legierungs-Sputtertargets könnten in einem breiten Spektrum von Industriebereichen eingesetzt werden, von Halbleitern bis hin zu elektronischen Funktionskomponenten.

Rich Special Materials ist auf die Herstellung von Sputtertargets spezialisiert und kann Kupfer-Aluminium-Sputtermaterialien gemäß den Spezifikationen der Kunden herstellen. Unsere Produkte zeichnen sich durch hervorragende mechanische Eigenschaften, eine homogene Struktur und eine polierte Oberfläche ohne Ablagerungen, Poren oder Risse aus. Für weitere Informationen kontaktieren Sie uns bitte.


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