Sputtertarget aus CrAlW-Legierung, hochreine Dünnschicht-PVD-Beschichtung, maßgeschneidert

Das Chrom-Aluminium-Wolfram-Sputtertarget wird mittels Pulvermetallurgie hergestellt, um eine hohe Reinheit, homogene Mikrostruktur, hohe Dichte und hohe elektrische Leitfähigkeit zu erreichen.

Die Chrom-Aluminium-Wolfram-Legierung ist ein perfektes Material für die Verbindungs- und Elektrodenindustrie. Es hat eine glatte Oberfläche, eine hohe Abscheidungsrate, Zähigkeit und Durchschlagsfestigkeit und lässt sich gut mit dem Substratmaterial mischen.

Rich Special Materials ist auf die Herstellung von Sputtertargets spezialisiert und kann Chronium-Aluminium-Wolfram-Sputtermaterialien gemäß den Spezifikationen der Kunden herstellen. Unsere Produkte zeichnen sich durch hohe Reinheit, homogene Struktur und hohe Dichte ohne Entmischung, Poren oder Risse aus. Für weitere Informationen kontaktieren Sie uns bitte.