Sputtertarget aus CrAl-Legierung, hochreine Dünnschicht-PVD-Beschichtung, maßgeschneidert
Chromaluminium
Die Herstellung von Chrom-Aluminium-Sputtertargets umfasst die folgenden Schritte:
1. Pulvermahlen und Mischen.
2. Heißisostatische Pressbehandlung zur Herstellung von Halbzeugen.
3. Bearbeiten des rauen Sputtertargetmaterials aus einer Chromaluminiumlegierung, um das Sputtertargetmaterial aus einer Chromaluminiumlegierung zu erhalten.
Während des Abscheidungsprozesses von CrAl-Sputtertargets entsteht eine harte Aluminium-Chrom-Nitrid (AlCrN)-Beschichtung. Diese Beschichtung weist auch bei hohen Temperaturen eine hohe Härte und Oxidationsbeständigkeit auf. Beim Einsatz von CNC-Maschinen könnten die Fräser mit hohen Vorschüben laufen, um die Produktivität zu steigern und die Qualität zu steigern.
Unsere typischen AlCr-Targets und ihre Eigenschaften
| Cr-70Albei% | Cr-60Albei% | Cr-50Albei% | |
| Reinheit (%) | 99,8/99,9/99,95 | 99,8/99,9/99,95 | 99,8/99,9/99,95 |
| Dichte（g/cm3） | 3.7 | 4.35 | 4,55 |
| GRegen Größe(µm) | 100/50 | 100/50 | 100/50 |
| Verfahren | HÜFTE | HÜFTE | HÜFTE |
Rich Special Materials ist auf die Herstellung von Sputtertargets spezialisiert und kann Aluminium-Chrom-Sputtermaterialien nach Kundenspezifikation herstellen. Unsere Produkte zeichnen sich durch hervorragende mechanische Eigenschaften, eine homogene Struktur und eine polierte Oberfläche ohne Ablagerungen, Poren oder Risse aus. Für weitere Informationen kontaktieren Sie uns bitte.
Produktkategorien
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