Sputtertarget aus CoFeTaZr-Legierung, hochreine Dünnschicht-PVD-Beschichtung, maßgeschneidert

Kobalt-Eisen-Tantal-Zirkonium-Sputtertargets werden durch Vakuumschmelzen hergestellt. Dieser Produktionsprozess könnte wichtige Bestandteile wirksam vor Oxidation schützen und eine homogene Mikrostruktur, einheitliche Korngröße und hohe Konsistenz der abgeschiedenen Filme gewährleisten.

Nach der Wärmebehandlung konnte die PTF des Targets deutlich verbessert werden, weshalb es häufig als weichmagnetisches Schichtmaterial in senkrecht magnetischen Aufzeichnungsschichten verwendet wird.

Rich Special Materials ist auf die Herstellung von Sputtertargets spezialisiert und kann Kobalt-Eisen-Tantal-Zirkonium-Sputtermaterialien gemäß den Spezifikationen der Kunden herstellen. Für weitere Informationen kontaktieren Sie uns bitte.