Sputtertarget aus AlTi-Legierung, hohe Reinheit

Die Anforderungen an die Targetqualität für die Sputterbeschichtung sind höher als in der traditionellen Materialindustrie. Die gleichmäßige Mikrostruktur des Targets wirkt sich direkt auf die Sputterleistung aus. Wir verfügen über ein umfassendes Qualitätsmanagementsystem, wählen hochreine Rohstoffe aus und mischen sie sorgfältig, um Homogenität zu gewährleisten. Das Sputtertarget aus einer Aluminium-Titan-Legierung wird im Vakuum-Heißpressverfahren hergestellt.

Unsere Aluminium-Titan-Sputtertargets könnten eine hervorragende oxidationsbeständige Nitridbeschichtung, Titanaluminiumnitrid (TiAlN), liefern. TiAlN ist derzeit der gängige Film für Schneidwerkzeuge, Gleitteile und Tribobeschichtungen. Es weist eine hohe Härte, Zähigkeit, Verschleißfestigkeit und Oxidationstemperatur auf.